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J-GLOBAL ID：201402267581830635   整理番号：14A1004557

X線回折(XRD),及び電子後方散乱回折(EBSD)の組み合わせによるNiMnGa薄膜の結晶構造,及び結晶学特定特徴の同定

Identification of crystal structure and crystallographic features of NiMnGa thin films by combination of x-ray diffraction (XRD) and electron backscatter diffraction (EBSD)

著者 (9件)： YANG Bo (Northeastern Univ., Shenyang, CHN) ,  YANG Bo (Univ. Lorraine, Metz, FRA) ,  LI Zongbin (Northeastern Univ., Shenyang, CHN) ,  LI Zongbin (Univ. Lorraine, Metz, FRA) ,  ZHANG Yudong (Univ. Lorraine, Metz, FRA) ,  ESLING Claude (Univ. Lorraine, Metz, FRA) ,  QIN Gaowu (Northeastern Univ., Shenyang, CHN) ,  ZHAO Xiang (Northeastern Univ., Shenyang, CHN) ,  ZUO Liang (Northeastern Univ., Shenyang, CHN)
資料名： Materials Science Forum  (Materials Science Forum)
巻： 783/786  号： Pt.3  ページ： 2561-2566  発行年： 2014年 
JST資料番号： D0716B  ISSN： 0255-5476  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (9件)： X線回折 ,  XRD ,  電子後方散乱回折 ,  EBSD ,  組み合わせ ,  薄膜 ,  結晶構造 ,  結晶学 ,  同定