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J-GLOBAL ID：201402271473639136   整理番号：14A0231220

テトラエチル(2,3-ジメチレンブタン-1,4-ジイル)ビス(ホスホナート)のフリーラジカル重合

Free-radical polymerization of tetraethyl (2,3-dimethylenebutane-1,4-diyl)bis(phosphonate)

著者 (5件)： TAKENAKA Katsuhiko (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.) ,  ARIMOTO Mayumi (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.) ,  TAKESHITA Hiroki (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.) ,  MIYA Masamitsu (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.) ,  SHIOMI Tomoo (Dep. of Materials Sci. and Technol., Nagaoka Univ. of Technol.)
資料名： e-Journal of Soft Materials (Web)  (e-Journal of Soft Materials (Web))
巻： 9  ページ： 1-8 (J-STAGE)  発行年： 2013年 
JST資料番号： U0038A  ISSN： 1349-7308  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 1分子中に2つのジエチルホスホナート機能を含む1,3-ブタジエン誘導体であるテトラエチル(2,3-ジメチレンブタン-1,4-ジイル)ビス(ホスホナート)のフリーラジカル重合を,種々の条件下で行った。開始剤として2,2′-アゾビスイソブチロニトリルの1モル%を使用して21時間60°Cベンゼン中で重合を行った場合,ゲル形成無しで粘着性ポリマーを収率70%で得た。溶離剤としてN,N-ジメチルホルムアミドを用いポリスチレンキャリブレーションに基づくSECにより,得られたポリマーの数平均分子量を69,000と推定した。重合速度は,開始剤およびモノマー濃度のそれぞれ0.5および1.5乗に比例することを見いだした。重合の全活性化エネルギーを91.4kJ/モルと決定した。重合体の微細構造は,もっぱら1,4-であったが,EおよびZ配置の両方を含んでいた。ポリマーのガラス転移温度は-18°Cであった。コモノマーのスチレンとモノマーのモノマー反応性比は,r_st=0.15,r₂=6.1と決定した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 立体配置 ,  *ラジカル重合 ,  溶液重合 ,  反応速度 ,  *共重合 ,  反応機構 ,  ガラス転移点 ,  重合開始剤 ,  濃度依存性 ,  単量体 ,  活性化エネルギー ,  性質 ,  共重合体 ,  収率 ,  *ホスホン酸エステル ,  アルカジエン ,  分子量 ,  芳香族炭化水素 ,  ビニル化合物
準シソーラス用語： ブタジエン誘導体 ,  数平均分子量 ,  粘着性

分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

物質索引 (3件)： ジエチルホスホナート ,  スチレン ,  (2,3-ジメチレンブタン-1,4-ジイル)ビス(ホスホン酸ジエチル)

タイトルに関連する用語 (3件)： テトラ ,  ビス ,  フリーラジカル重合