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J-GLOBAL ID：201402278143073157   整理番号：14A0854181

マグネトロンスパッタリング堆積により得たBCN膜の機械的及び引かき特性に及ぼすアニーリングの効果

Effect of annealing on the mechanical and scratch properties of BCN films obtained by magnetron sputtering deposition

著者 (5件)： XU Shuyan (Key Lab. of Forest Sustainable Management and Environmental Microorganism Engineering of Heilongjiang Province ...) ,  MA Xinxin (School of Material Sci. and Engineering, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  WEN Huiying (Key Lab. of Forest Sustainable Management and Environmental Microorganism Engineering of Heilongjiang Province ...) ,  TANG Guangze (School of Material Sci. and Engineering, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  LI Chunwei (Key Lab. of Forest Sustainable Management and Environmental Microorganism Engineering of Heilongjiang Province ...)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 313  ページ： 823-827  発行年： 2014年09月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒化ホウ素炭素(BCN)膜を,直流非平衡マグネトロンスパッタリングにより作製した。BCN合成中,炭化ホウ素/グラファイト化合物及び窒素とアルゴンの混合物を,それぞれ,ターゲット及びキャリアガスとして用いた。得られたBCN膜を,真空条件下,異なる温度でアニールした。膜の構造,機械的特性,及び引かき挙動に及ぼすアニーリング温度の効果を研究した。結果は,膜を1000°Cでアニールしても,分解生成物が見られないことを示した。膜の硬度及び弾性率は,アニーリング温度の上昇とともに低下した。600°CでアニールしたBCN膜は,最強の引掻き抵抗を示した。摩擦係数は,0.05~0.15の範囲にあった。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ホウ素化合物 ,  *炭素化合物 ,  *窒化物 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *焼なまし ,  分解物 ,  *弾性係数 ,  温度依存性 ,  摩擦係数 ,  *ウエハ【IC】 ,  *微小硬さ ,  *引かき硬さ ,  *セラミック被覆 ,  *窒化ホウ素炭素 ,  直流マグネトロンスパッタリング ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： Si基板

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (3件)： マグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  アニーリング