文献

J-GLOBAL ID：201402278711618660   整理番号：14A0165657

6.x nm領域における希土類プラズマ極端紫外光源

Rare-earth Plasma Beyond Extreme Ultraviolet (BEUV) Sources at 6.x nm

著者 (4件)： 大塚崇光 (宇都宮大学大学院 工学研究科) ,  大塚崇光 (School of Physics, Univ. Coll. Dublin) ,  東口武史 (宇都宮大学大学院 工学研究科) ,  湯上登 (宇都宮大学大学院 工学研究科)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 133  号： 10  ページ： 526-531 (J-STAGE)  発行年： 2013年 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 極端紫外光リソグラフィーの露光光源に用いることの検討として,希土類元素(純Gdと純Tb)にレーザーパルスを照射し,発生したレーザー生成プラズマのEUV発光スペクトルを示し,発光スペクトルのレーザーパルス幅依存性,観測角度依存性,光変換効率,及び発生する高速イオンの特性を述べた。真空容器内にGd又はTbの平板ターゲットを設置し,Nd:YAGレーザーをターゲットの法線方向から集光照射して,発生したEUV光の時間積分スペクトルを,ターゲットの法線方向から45度方向と90度方向に配置した斜入射分光器により測定した。又,レーザーのパルス幅と強度を変えて,EUV変換効率とイオンの運動エネルギーを測定した。波長を6.7nm,帯域幅を0.6%としたときの変換効率は,パルス幅150ps,強度7.0×10¹³W/cm²の場合に最大となり,0.4%であった。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  極端紫外線 ,  レーザプラズマ ,  *光源 ,  紫外スペクトル ,  エネルギー変換効率 ,  イオン ,  希土類元素
準シソーラス用語： 極端紫外光リソグラフィー ,  極端紫外線光源 ,  高速イオン

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光源,照明器具  (NB12020F)

引用文献 (30件)：

• BAKSHI, V. EUV Sources for Lithography. 2006, Chap 11
• ATTWOOD, D. T. Soft X-rays and Extreme Ultraviolet Radiation. 2000, Chap 6
• 岡崎信次. 半導体リソグラフィ技術の進展とEUVリソグラフィの開発状況. レーザー学誌. 2010, 38, 12, 963-968
• BANINE, V. EUV Lithography and EUVL sources : from the beginning to NEX and beyond. Proc. of the 2011 International Workshop on EUVL, Maui, Hawaii. 2011
• BAUCH, J. Unresolved Transition Arrays. Physica Scripta. 1988, 37, 659-663

タイトルに関連する用語 (3件)： 希土類 ,  プラズマ ,  極端紫外光源