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J-GLOBAL ID：201402280549795506   整理番号：13A1955770

CMOS互換プロセスにより作製されたフォトニック結晶低速光学素子

Photonic crystal slow light devices fabricated by CMOS-compatible process

著者 (7件)： BABA Toshihiko (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Yokohama National Univ.) ,  NGUYEN Hong C. (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Yokohama National Univ.) ,  ISHIKURA Norihiro (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Yokohama National Univ.) ,  SUZUKI Keijiro (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Yokohama National Univ.) ,  SHINKAWA Mizuki (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Yokohama National Univ.) ,  HAYAKAWA Ryo (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Yokohama National Univ.) ,  KONDO Keisuke (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Yokohama National Univ.)
資料名： IEICE Electronics Express (Web)  (IEICE Electronics Express (Web))
巻： 10  号： 10  ページ： 20132002-20132002 (J-STAGE)  発行年： 2013年 
JST資料番号： U0039A  ISSN： 1349-2543  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 短光パルスの同調遅延と光-物質相互作用の強化とを可能にする,フォトニック結晶導波路と他のフォトニックナノ構造における広帯域分散フリー低速光を検討した。200~400μm長のコンパクトな素子をSiフォトニクス要素で集積し,DCおよびACエレクトロニクスにより制御するCMOS互換プロセスにより作製した最先端の素子を明示した。それらは分散制御装置,光相関器,DQPSK受信機,パルス列のリタイミング,二光子吸収フォトダイオードおよびMach-Zehnder変調器に適用される。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  結晶 ,  *光学素子 ,  遅れ ,  相互作用 ,  光パルス ,  *光導波路 ,  フォトニック結晶
準シソーラス用語： CMOSプロセス ,  互換プロセス ,  *低速光学素子

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  その他の光デバイス  (BD06060O)

引用文献 (35件)：

• [1] M. Notomi, K. Yamada, A. Shinya, J. Takahashi, C. Takahashi, and I. Yokohama, “Extremely large group velocity dispersion of line-defect waveguides in photonic crystal slabs,” Phys. Rev. Lett., vol. 87, no. 25, pp. 253902-1-253902-4, Dec. 2001.
• [2] T. Baba, “Slow light in photonic crystals,” Nature Photon., vol. 2, no. 8, pp. 465-473, Aug. 2008.
• [3] J. D. Joannopoulos, S. G. Johnson, J. N. Winn, and R. D. Meade, Photonic Crystals: Molding the Flow of Light, 2nd Ed., Princeton University Press, New York, 2008.
• [4] T. Baba, A. Motegi, T. Iwai, N. Fukaya, Y. Watanabe, and A. Sakai, “Light propagation characteristics of straight single line defect optical waveguides in a photonic crystal slab fabricated into a silicon-on-insulator substrate,” IEEE J. Quantum Electron., vol. 38, no. 7, pp. 743-752, July 2002.
• [5] A. Sakai, G. Hara, and T. Baba, “Propagation characteristics of ultra-high D optical waveguide on silicon-on-insulator substrate,” Jpn. J. Appl. Phys., vol. 40, no. 4B, pp. L383-L385, April 2001.

タイトルに関連する用語 (6件)： CMOS ,  プロセス ,  作製 ,  フォトニック結晶 ,  低速 ,  光学素子