シリコン・フォトニクスを用いた高密度光インターコネクト

URINO Yutaka; URINO Yutaka; USUKI Tatsuya; USUKI Tatsuya; FUJIKATA Junichi; FUJIKATA Junichi; ISHIZAKA Masashige; ISHIZAKA Masashige; YAMADA Koji; YAMADA Koji; HORIKAWA Tsuyoshi; HORIKAWA Tsuyoshi; NAKAMURA Takahiro; NAKAMURA Takahiro; ARAKAWA Yasuhiko; ARAKAWA Yasuhiko

文献

J-GLOBAL ID：201402284495178749 整理番号：14A1011367

シリコン・フォトニクスを用いた高密度光インターコネクト

High-density optical interconnects by using silicon photonics

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巻： 9010 ページ： 901006.1-901006.9 発行年： 2014年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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情報通信分野において,チップ間のインターコネクトの帯域幅がボトルネックとなりつつある。シリコン・フォトニクスを用いたチップ間光インターコネクトはこの問題を解決できる可能性がある。光源とシリコン系電子デバイスの集積化について論じた。シリコン・スポットサイズ変換器,シリコン光導波路,シリコン光スプリッタ,シリコン光変調器,ゲルマニウム光電変換素子及びアレイ化レーザなどの光コンポーネントについて検討した。シリコン・インターポーザによって,エラーフリーな20Gbpsのデータリンクを実現し,30Tbps/cm²の帯域密度が得られることを示した。

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