文献

J-GLOBAL ID：201402287909343231   整理番号：14A0982608

光照射及び後焼付への応答におけるアクリルブロック及びランダム共重合体を使用した感圧接着剤の解体挙動

Dismantling Behavior of Pressure Sensitive Adhesives Using Acrylic Block and Random Copolymers in Response to Photoirradiation and Postbaking

著者 (6件)： SATO Eriko (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  TANIGUCHI Kentaro (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  INUI Tadashi (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  YAMANISHI Keisuke (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  HORIBE Hideo (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  MATSUMOTO Akikazu (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 27  号： 4  ページ： 531-534  発行年： 2014年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アクリルブロック及びランダム共重合体の解体挙動を検討した。アクリル酸tert-ブチル(tBA)/アクリル酸2-エチルヘキシル(2HEMA)/アクリル酸2-ヒドロキシエチル(HEA)からリビングラジカル重合により,アクリルブロック及びランダム共重合体を合成した。アクリルブロック及びランダム共重合体/N-ヒドロキシナフタルイミドトリフラート(NIT)(光酸発生剤)/トルエン溶液をポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムに塗布し,感圧接着剤を調製した。得られた感圧接着剤をSUS430板に圧着し試料とした。解体処理として,Toshiba SHL-100UVQ-2による光照射を1h,続いて後焼付を100°C×1h行った。解体処理前後の試料についてASTM D3330に準拠した180°剥離試験,接着層形態の電子顕微鏡観察などを行った。検討の結果,本感圧接着剤システムに対する解体処理後の180°剥離強度に大幅な低下があることが明らかになった。共重合体組成考察,剥離形態観察などから解体挙動の詳細を明らかにすることが出来た。

シソーラス用語： *解体 ,  *感圧接着剤 ,  イミド ,  ケトン ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  *光酸発生剤 ,  電子顕微鏡観察 ,  光照射 ,  熱処理 ,  ランダム共重合体 ,  ブロック共重合体 ,  アクリル樹脂 ,  *ポリアクリル酸エステル ,  ポリエチレンテレフタレート ,  ステンレス鋼 ,  ASTM規格 ,  剥離試験 ,  形態 ,  化学組成 ,  付着
準シソーラス用語： SUS430 ,  ナフタルイミド類 ,  圧着

分類 (2件)： 接着剤の性質・試験  (YK02000Q) ,  光化学反応  (CB08020F)

引用文献 (8件)：

• K. Ebe, H. Seno, K. Horigome, J. Appl. Polym. Sci., 90 (2003) 436. P. S. Shuttleworth, J. H. Clark, R. Mantle, N. Stansfield, Green Chem., 12 (2010) 798. J. R. Mcelhanon, E. M. Russick, D. R. Wheeler, D. A. Loy, J. H. Aubert, J. Appl. Polym. Sci., 85 (2002) 1496. J. M. Boyne, E. J. Millan, I. Webster, Int. J. Adhesion Adhesives, 21 (2001) 49.
• E. Sato, H. Tamura, A. Matsumoto, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2 (2010) 2594.
• E. Sato, T. Hagihara, A. Matsumoto, ACS Appl. Mater Interfaces, 4 (2012) 2057.
• T. Inui, E. Sato, A. Matsumoto, ACS Appl. Mater. Interfaces, 4 (2012) 2124.
• K. Yamanishi, E. Sato, A. Matsumoto, J. Photopolym. Sci. Tech., 26 (2013) 239.

タイトルに関連する用語 (8件)： 光照射 ,  焼付 ,  応答 ,  アクリル ,  ランダム共重合体 ,  感圧接着剤 ,  解体 ,  挙動