特許
J-GLOBAL ID：201403000177686897
プラズマ照射装置およびプラズマ処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-103726
公開番号（公開出願番号）：特開2014-225367
出願日： 2013年05月16日
公開日（公表日）： 2014年12月04日
要約：
【課題】高密度なプラズマを、均一に照射できるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法の提供。【解決手段】プラズマ発生装置3および処理対象物1の少なくともどちらか一方を固定せず、プラズマ発生装置3および処理対象物1を、直接的、もしくは間接的に接触させ、この接触により間隙を一定に保つ機構である高さ調整機構4と自在継手5を備え、処理対象物1がベルトコンベア2により動揺している場合でも、プラズマ発生装置3および処理対象物1の間隙を保つできる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
プラズマ発生装置と処理対象物の間隙距離を保つ機構を備えたプラズマ照射装置およびプラズマ処理方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
前のページに戻る
