特許
J-GLOBAL ID：201403001658463197

ヒンダードフェノールの製造方法

発明者：
堀口 雅弘

堀口 雅弘 について

, 
楠本 哲生

楠本 哲生 について


出願人/特許権者：
DIC株式会社

DIC株式会社 について


代理人 (1件)： 河野 通洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-242718
公開番号（公開出願番号）：特開2014-091695
出願日： 2012年11月02日
公開日（公表日）： 2014年05月19日
要約：
【課題】 本願発明が解決しようとする課題は、液晶材料に添加し、液晶表示素子を作製した際に、当該液晶表示素子に焼き付きを引き起こしにくいヒンダードフェノールの製造方法及び、当該製造方法により得られる化合物を提供することである。【解決手段】 少なくとも一つのカルボニル基及び少なくとも一つのヒンダードフェノール骨格を有する化合物(A)の一つ又は複数のカルボニル基を、接触水素化還元によってメチレン基へと変換することによる、少なくとも一つのメチレン基及び少なくとも一つのヒンダードフェノール基を有する化合物(B)の製造方法及び、当該製造方法により得られる化合物を提供し、更に当該化合物を中間体とする化合物並びに、当該化合物を使用した組成物を提供する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
少なくとも一つのカルボニル基及び少なくとも一つのヒンダードフェノール骨格を有する化合物(A)の一つ又は複数のカルボニル基を、接触水素化還元によってメチレン基へと変換する化合物(B)の製造方法。
IPC (4件)：
C07C 37/00 ,  C09K 19/54 ,  C07C 39/06 ,  C07C 39/17
FI (4件)：
C07C37/00 ,  C09K19/54 Z ,  C07C39/06 ,  C07C39/17
Fターム (10件)：
4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AC42 ,  4H006BA25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006FE13 ,  4H027BD01 ,  4H039CA60 ,  4H039CB20
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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