特許
J-GLOBAL ID:201403002333740190
レーザ液滴プラズマ照明器による光学結像システム
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-554464
公開番号(公開出願番号):特表2014-511482
出願日: 2012年01月30日
公開日(公表日): 2014年05月15日
要約:
ウェハ検査システムは、40ナノメートル以下の(down to)波長で明視野(bright field)検査を可能にするのに十分な放射強度を有する光を生成するレーザ液滴プラズマ(LDP)光源を含む。LDPによって生成される光はウェハに向けられ、照明されたウェハからの光は、全反射要素を有する高NA対物レンズによって収集される。検出器は、さらなる画像処理のために、被収集光を検出する。LDP源は、フィード材の液滴を吐出する液滴発生器を含む。レーザによって生成される励起光は、フィード材の液滴にフォーカスされる。励起光と液滴との相互作用は、40ナノメートル〜200ナノメートルのスペクトル範囲内で少なくとも10W/mm2-srの放射強度を有する照明光を放出するプラズマを生成する。
請求項(抜粋):
装置であって、
光源を備え、前記光源は、
フィード材の液滴のシーケンスを吐出する液滴発生器と、
前記フィード材の液滴に向けられる励起光を生成するレーザとを備え、前記励起光と前記フィード材の液滴との相互作用は、前記液滴をイオン化させ、それにより、照明光を放出するプラズマを形成し、前記照明光は、約40ナノメートル〜約200ナノメートルのスペクトル領域内の光を含み、前記照明光は、試料を照明するために使用可能である装置。
IPC (5件):
G01N 21/956
, G02B 21/06
, G02B 21/16
, G01N 21/84
, H01L 21/66
FI (5件):
G01N21/956 A
, G02B21/06
, G02B21/16
, G01N21/84 E
, H01L21/66 J
Fターム (31件):
2G051AA51
, 2G051BA05
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BB11
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051CC09
, 2G051CC11
, 2G051CD01
, 2G051DA06
, 2G051EA02
, 2G051EA12
, 2G051EA25
, 2G051ED03
, 2H052AB06
, 2H052AC04
, 2H052AC09
, 2H052AC26
, 2H052AC27
, 2H052AC34
, 2H052AF02
, 2H052AF06
, 4M106AA01
, 4M106BA07
, 4M106CA39
, 4M106DB08
, 4M106DB12
, 4M106DB13
, 4M106DB30
引用特許:
出願人引用 (5件)
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レーザ駆動の光源
公報種別:公表公報
出願番号:特願2009-503066
出願人:エナジェティック・テクノロジー・インコーポレーテッド
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多層膜マスク欠陥検査方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-309981
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
-
反射型軟X線顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-173427
出願人:株式会社ニコン
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審査官引用 (5件)
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レーザ駆動の光源
公報種別:公表公報
出願番号:特願2009-503066
出願人:エナジェティック・テクノロジー・インコーポレーテッド
-
多層膜マスク欠陥検査方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-309981
出願人:独立行政法人産業技術総合研究所
-
反射型軟X線顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-173427
出願人:株式会社ニコン
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引用文献:
出願人引用 (3件)
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Tin lasar-produced plasma as the light source for extreme ultraviolet lithograpy high-volume manufac
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Lasar-produced plasma light source for extreme-ultraviolet lithography applications
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Brilliance scaling of discharge sources for extreme-ultraviolet and soft x-ray radiation for metrolo
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