特許
J-GLOBAL ID:201403002333740190

レーザ液滴プラズマ照明器による光学結像システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-554464
公開番号(公開出願番号):特表2014-511482
出願日: 2012年01月30日
公開日(公表日): 2014年05月15日
要約:
ウェハ検査システムは、40ナノメートル以下の(down to)波長で明視野(bright field)検査を可能にするのに十分な放射強度を有する光を生成するレーザ液滴プラズマ(LDP)光源を含む。LDPによって生成される光はウェハに向けられ、照明されたウェハからの光は、全反射要素を有する高NA対物レンズによって収集される。検出器は、さらなる画像処理のために、被収集光を検出する。LDP源は、フィード材の液滴を吐出する液滴発生器を含む。レーザによって生成される励起光は、フィード材の液滴にフォーカスされる。励起光と液滴との相互作用は、40ナノメートル〜200ナノメートルのスペクトル範囲内で少なくとも10W/mm2-srの放射強度を有する照明光を放出するプラズマを生成する。
請求項(抜粋):
装置であって、 光源を備え、前記光源は、 フィード材の液滴のシーケンスを吐出する液滴発生器と、 前記フィード材の液滴に向けられる励起光を生成するレーザとを備え、前記励起光と前記フィード材の液滴との相互作用は、前記液滴をイオン化させ、それにより、照明光を放出するプラズマを形成し、前記照明光は、約40ナノメートル〜約200ナノメートルのスペクトル領域内の光を含み、前記照明光は、試料を照明するために使用可能である装置。
IPC (5件):
G01N 21/956 ,  G02B 21/06 ,  G02B 21/16 ,  G01N 21/84 ,  H01L 21/66
FI (5件):
G01N21/956 A ,  G02B21/06 ,  G02B21/16 ,  G01N21/84 E ,  H01L21/66 J
Fターム (31件):
2G051AA51 ,  2G051BA05 ,  2G051BA08 ,  2G051BA10 ,  2G051BB11 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051CC09 ,  2G051CC11 ,  2G051CD01 ,  2G051DA06 ,  2G051EA02 ,  2G051EA12 ,  2G051EA25 ,  2G051ED03 ,  2H052AB06 ,  2H052AC04 ,  2H052AC09 ,  2H052AC26 ,  2H052AC27 ,  2H052AC34 ,  2H052AF02 ,  2H052AF06 ,  4M106AA01 ,  4M106BA07 ,  4M106CA39 ,  4M106DB08 ,  4M106DB12 ,  4M106DB13 ,  4M106DB30
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献:
出願人引用 (3件)
  • Tin lasar-produced plasma as the light source for extreme ultraviolet lithograpy high-volume manufac
  • Lasar-produced plasma light source for extreme-ultraviolet lithography applications
  • Brilliance scaling of discharge sources for extreme-ultraviolet and soft x-ray radiation for metrolo

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