特許
J-GLOBAL ID：201403002500532619
細胞凝集体の形成方法、細胞凝集体形成用基材の製造方法及び細胞凝集体形成用基材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (9件)：
天野 一規
, 藤本 勝誠
, 池田 義典
, 小川 博生
, 加藤 早苗
, 石田 耕治
, 各務 幸樹
, 根木 義明
, 新庄 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-174149
公開番号（公開出願番号）：特開2014-030405
出願日： 2012年08月06日
公開日（公表日）： 2014年02月20日
要約：
【課題】ポリイミド等の膜表面への微細な凹凸形成の際、粉塵の発生を防止することができる細胞凝集体の形成方法を提供する。【解決手段】(a1)下式(1)で表されるポリイミド又はその前駆体が主成分の膜に偏光紫外線を照射する工程、(a2)上記偏光紫外線が照射された膜の表面に細胞を播種する工程、及び(a3)上記播種された細胞の培養により細胞凝集体を形成する工程を有する細胞凝集体の形成方法。(式(1)中、R1は、特定式で表される4価の有機基。R2は、炭素数1〜20の2価の有機基である。)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a1)ポリイミド又はその前駆体が主成分の膜に偏光紫外線を照射する工程、
(a2)上記偏光紫外線が照射された膜の表面に細胞を播種する工程、及び
(a3)上記播種された細胞の培養により細胞凝集体を形成する工程
を有する細胞凝集体の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C12N5/00 202
, C12M1/00 C
4B029AA08
, 4B029AA21
, 4B029BB11
, 4B029CC02
, 4B065AA91X
, 4B065AC20
, 4B065BC41
, 4B065CA44
