特許
J-GLOBAL ID：201403003119421475
放射源及びリソグラフィ装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-527558
公開番号（公開出願番号）：特表2014-527273
出願日： 2012年07月27日
公開日（公表日）： 2014年10月09日
要約：
放射源は、燃料小滴(400)の流れを軌跡に沿ってプラズマ形成位置に向かって誘導するように構成されたノズルと、レーザ放射をプラズマ形成位置に誘導してプラズマ形成位置における燃料小滴をプラズマに変換するように構成されたレーザと、を備える。レーザは、増幅器(310,320)と、増幅器を通過する放射のための発散ビーム経路を画定するように構成された光学素子(500)と、を備える。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
燃料小滴の流れを軌跡に沿ってプラズマ形成位置に向かって誘導するノズルと、
レーザ放射、例えば約9μm〜約11μmの波長を有する放射を前記プラズマ形成位置に誘導して前記プラズマ形成位置における前記燃料小滴をプラズマに変換するレーザと、を備え、
前記レーザは、増幅器と、前記増幅器を通過する放射のための発散ビーム経路を画定する光学素子と、を備える、放射源。
IPC (4件)：
H05G 2/00
, H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01S 3/00
H05G2/00 K
, H01L21/30 531S
, G03F7/20 521
, H01S3/00 A
4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AB12
, 4C092AC09
, 5F146GA03
, 5F146GA21
, 5F146GA28
, 5F146GC12
, 5F172AD05
, 5F172NQ33
, 5F172NQ34
, 5F172ZZ14
