特許
J-GLOBAL ID：201403009354579866
成膜装置及びインジェクタ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
グローバル・アイピー東京特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-039728
特許番号：特許第5432396号
出願日： 2013年02月28日
要約：
【課題】原子層単位で基板に薄膜を形成する際、成膜の単位時間当たりの処理量を向上させることができるインジェクタおよび成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、成膜中の基板を搬送する搬送機構と、成膜用ガスを前記基板に向けて供給するインジェクタを前記基板の搬送経路に沿って複数設けたインジェクタユニットと、反応物質を生成する反応物質供給ユニットと、を備える。前記インジェクタユニットは、前記インジェクタの間のそれぞれの隙間から前記反応物質を前記成膜成分の層に供給する。前記インジェクタの基板対向面は、前記成膜用ガスを出力する成膜用ガス供給口と、前記成膜用ガス供給口に対して前記基板の搬送方向の両側に設けられ、余分なガスを吸引する第1ガス排気口と、前記第1ガス排気口のそれぞれに対して前記成膜用ガス供給口から遠ざかる側に設けられ、前記成膜成分に対して不活性なガスを供給する不活性ガス供給口と、を有する。
【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
【請求項1】 原子層単位で基板に薄膜を形成する成膜装置であって、
基板の成膜中、前記基板を搬送する搬送機構と、
搬送中の前記基板に成膜用ガスの成膜成分の層を形成するために前記成膜用ガスを前記基板に向けて供給するインジェクタが前記基板の搬送経路に沿って複数設けられたインジェクタユニットと、
前記成膜成分と反応する反応物質を生成する反応物質供給ユニットと、を備え、
前記インジェクタユニットは、前記インジェクタの間のそれぞれの隙間から前記反応物質を前記基板に向けて供給するように構成され、
前記インジェクタのそれぞれの前記基板に対向する基板対向面は、前記成膜用ガスを出力する成膜用ガス供給口と、前記成膜用ガス供給口に対して前記基板の搬送方向の両側に設けられ、前記基板上の余分なガスを吸引する第1ガス排気口と、前記第1ガス排気口のそれぞれに対して前記搬送方向のうち前記成膜用ガス供給口から遠ざかる側に設けられ、不活性なガスを出力する不活性ガス供給口と、を備えることを特徴とする成膜装置。
IPC (3件)：
C23C 16/455 ( 200 6.01)
, H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
C23C 16/455
, H01L 21/31 B
, H01L 21/31 C
, H05H 1/46 M
