ライン状均一吐出装置、霧化装置、薄膜形成装置、パターン形成装置、三次元造形装置および洗浄装置。

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-263718
公開番号（公開出願番号）：特開2005-105414
出願日： 2004年09月10日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】大サイズ基板へ、ナノメーターオーダーの薄膜を形成可能とし、線幅1μm程度の高解像度パターンを形成できるとともに、省工数、低コスト、低ランニングコストで、媒質として、粉体、液体、ペースト、ガスなどすべての材料を使用できる薄膜形成装置、パターン形成装置、洗浄装置を提供すること。【解決手段】衝突させて均一化する空間と、この媒質を加速する空間と、媒質輻輳空間とを有する半密閉空間を構成し、流体、電界の加速手段と、粉体、液体、ペースト、ガスによる霧化装置を取り付け、スクリーン、レーザーを用いて成膜、パターン形成、三次元造形、洗浄を行う。【選択図】図51

請求項（抜粋）：

複数のガスノズルを備え、このガスノズルの吐出圧力で媒質を加速し、衝突させて均一化する空間と、この媒質を加速する空間と、媒質輻輳空間と、還流路より構成されることを特徴とするライン状均一吐出装置。

IPC (17件)：

C23C16/00 , B05B5/08 , B05B7/04 , C23C4/00 , C23C16/08 , C23C16/452 , C23C16/50 , C23C18/14 , C23C18/20 , C23C18/31 , C23C24/04 , C23C24/08 , C23C24/10 , C23C26/00 , C23F4/02 , C25D5/02 , C25D13/00

FI (17件)：

C23C16/00 , B05B5/08 Z , B05B7/04 , C23C4/00 , C23C16/08 , C23C16/452 , C23C16/50 , C23C18/14 , C23C18/20 A , C23C18/31 E , C23C24/04 , C23C24/08 Z , C23C24/10 Z , C23C26/00 E , C23F4/02 , C25D5/02 Z , C25D13/00 309

Fターム (99件)：

4F033QA01 , 4F033QB05 , 4F033QB12Y , 4F033QD02 , 4F033QD07 , 4F033QD10 , 4F033QD13 , 4F033QH03 , 4F034AA10 , 4F034CA11 , 4F034DA03 , 4F034DA05 , 4F034DA26 , 4K022AA18 , 4K022AA26 , 4K022BA08 , 4K022BA14 , 4K022BA35 , 4K022CA06 , 4K022CA12 , 4K022CA14 , 4K022CA18 , 4K022CA21 , 4K022CA23 , 4K022DA01 , 4K022DB03 , 4K022DB17 , 4K022DB19 , 4K024AA09 , 4K024AB02 , 4K024AB08 , 4K024AB17 , 4K024BA12 , 4K024BB09 , 4K024CA01 , 4K024CA04 , 4K024CA06 , 4K024CB01 , 4K024CB08 , 4K024CB11 , 4K024CB18 , 4K024DA10 , 4K024FA01 , 4K030AA03 , 4K030AA09 , 4K030AA11 , 4K030AA14 , 4K030AA17 , 4K030AA18 , 4K030BA10 , 4K030BA13 , 4K030BA17 , 4K030BA18 , 4K030BA22 , 4K030BA42 , 4K030CA17 , 4K030EA04 , 4K030FA03 , 4K030FA10 , 4K030FA15 , 4K030FA17 , 4K030GA04 , 4K030KA15 , 4K030KA30 , 4K030LA02 , 4K030LA15 , 4K031AA06 , 4K031CB42 , 4K031DA04 , 4K031DA07 , 4K031EA07 , 4K044AA12 , 4K044AA16 , 4K044BA12 , 4K044BA18 , 4K044BA19 , 4K044BB10 , 4K044BC14 , 4K044CA11 , 4K044CA14 , 4K044CA15 , 4K044CA17 , 4K044CA18 , 4K044CA23 , 4K044CA24 , 4K044CA41 , 4K044CA51 , 4K044CA53 , 4K044CA71 , 4K057DA11 , 4K057DB05 , 4K057DD06 , 4K057DE01 , 4K057DE04 , 4K057DE06 , 4K057DE08 , 4K057DE14 , 4K057DN01 , 4K057DN03

引用特許：

出願人引用 (38件)

有機EL表示素子の製造方法および製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-110144 出願人：トッキ株式会社
基材に媒質を塗布する装置および方法、および該装置を複数有するシステム、並びに該装置、方法およびシステムの使用法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-531309 出願人：ストルク・テキスタイル・プリンテイング・グループ・ベー・ベー
特許2620353

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審査官引用 (1件)

粉体噴射加工における粉体噴射方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-281387 出願人：神田真治

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