特許
J-GLOBAL ID：201403013652725708
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-064408
公開番号（公開出願番号）：特開2014-191061
出願日： 2013年03月26日
公開日（公表日）： 2014年10月06日
要約：
【課題】ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるレジスト組成物の提供。【解決手段】α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、電子吸引性基を含むラクトン含有環式基を側鎖末端にもつ構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、露光により分解して酸拡散制御性を失う光崩壊性塩基(D1)と、を含有することを特徴とするレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、
酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)と、
露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、
下記の一般式(d1-1)で表される化合物、一般式(d1-2)で表される化合物、及び一般式(d1-3)で表される化合物からなる群より選ばれる1種以上の化合物(D1)と、
を含有し、
該基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)を有する高分子化合物(A1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004
, G03F 7/039
, C07C 309/12
, C07C 309/17
, C07C 381/12
G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, C07C309/12
, C07C309/17
, C07C381/12
2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF38P
, 2H125AF43P
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AM27P
, 2H125AM99P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN63P
, 2H125AN65P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4H006AA03
, 4H006AB40
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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