特許
J-GLOBAL ID：201403013886814143

イオン交換膜、イオン交換膜の製造方法及び電解槽

発明者：
角 佳典

角 佳典 について

, 
服部 行久

服部 行久 について


出願人/特許権者：
旭化成ケミカルズ株式会社

旭化成ケミカルズ株式会社 について


代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲 ,  西本 博之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-203197
公開番号（公開出願番号）：特開2014-058707
出願日： 2012年09月14日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
要約：
【課題】電解液中の不純物による電解性能への影響が少なく、安定した電解性能を発揮するイオン交換膜を提供する。【解決手段】イオン交換基を有する含フッ素系重合体を含む膜本体10と、該膜本体の少なくとも一方面上に設けられたコーティング層11a,11bとを有するイオン交換膜であって、前記コーティング層が、無機物粒子と結合剤とを含み、前記コーティング層の比表面積が、0.1〜10m2/gである、イオン交換膜。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
イオン交換基を有する含フッ素系重合体を含む膜本体と、該膜本体の少なくとも一方面上に設けられたコーティング層とを有するイオン交換膜であって、 前記コーティング層が、無機物粒子と結合剤とを含み、 前記コーティング層の比表面積が、0.1〜10m2/gである、イオン交換膜。
IPC (2件)：
C25B 13/08 ,  C25B 9/00
FI (2件)：
C25B13/08 302 ,  C25B9/00 E
Fターム (8件)：
4K021AA03 ,  4K021AB01 ,  4K021BA03 ,  4K021CA04 ,  4K021CA15 ,  4K021DB10 ,  4K021DB31 ,  4K021DB34
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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