特許
J-GLOBAL ID：201403020560505422

表面処理装置および表面処理方法

発明者：
岡野 正紀

岡野 正紀 について


出願人/特許権者：
パナソニック株式会社

パナソニック株式会社 について


代理人 (4件)： 鮫島 睦 ,  田村 恭生 ,  言上 惠一 ,  山尾 憲人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-018060
公開番号（公開出願番号）：特開2014-042799
出願日： 2013年02月01日
公開日（公表日）： 2014年03月13日
要約：
【課題】電解水を用いて、対象物の表面を効率よく殺菌することのできる装置および方法を提供する。【解決手段】本発明の表面処理装置10は、対象物60の表面60Sをラジカルで処理するための装置であって、電解水を発生させる電解水発生部20と、前記表面60Sに紫外線を照射する紫外光発生部40と、を備え、前記表面60S上で前記電解水に紫外線を照射することによりラジカルを発生させることを特徴とする。本発明の表面処理方法は、対象物60の表面60Sをラジカルで処理する方法であって、電解水50を発生させる工程と、前記電解水50を前記対象物60の前記表面60Sに供給する工程と、ラジカルを発生させるために、前記表面60S上で前記電解水50に紫外線70を照射する工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
対象物の表面をラジカルで処理するための装置であって、 電解水を発生させる電解水発生部と、 前記表面に紫外線を照射する紫外光発生部と、を備え、 前記表面上で前記電解水に紫外線を照射することによりラジカルを発生させることを特徴とする表面処理装置。
IPC (4件)：
A61L 2/18 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/32 ,  E03D 11/11
FI (4件)：
A61L2/18 ,  C02F1/46 Z ,  C02F1/32 ,  E03D11/11
Fターム (28件)：
2D039DB08 ,  4C058AA02 ,  4C058AA07 ,  4C058AA12 ,  4C058AA24 ,  4C058AA25 ,  4C058BB07 ,  4C058DD03 ,  4C058DD12 ,  4C058JJ07 ,  4C058JJ21 ,  4D037AA01 ,  4D037AA02 ,  4D037AB11 ,  4D037BA18 ,  4D037CA04 ,  4D061DA02 ,  4D061DA03 ,  4D061DB09 ,  4D061EA02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4D061EB14 ,  4D061EB19 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061ED12 ,  4D061FA07
引用特許：
審査官引用 (7件)
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