特許
J-GLOBAL ID：201403021834212911
ランダムレーザー素子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小越 勇
, 小越 一輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-183134
公開番号（公開出願番号）：特開2014-041902
出願日： 2012年08月22日
公開日（公表日）： 2014年03月06日
要約：
【課題】安定的な特性を有し、簡便かつ汎用性に優れ、小型で安価かつ作製が極めて容易なランダムレーザー素子を製造する技術を提供する。【解決手段】100〜1000nmの大きさの散乱体粒子が凝集した膜からなるランダムレーザー素子であって、膜中に欠陥粒子が点在し、欠陥粒子がレーザー発振を誘起する。特にサイズ形状が均一なサブミクロン球状粒子と意図的に導入された欠陥粒子とからなり、これを液体中に分散して塗布し、ランダムレーザーを作製する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
100〜1000nmの大きさの散乱体粒子が凝集した膜からなるランダムレーザー素子であって、前記膜中に欠陥粒子が点在し、前記欠陥粒子がレーザー発振を誘起することを特徴とするランダムレーザー素子。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
5F172AE28
, 5F172AF20
, 5F172AL07
, 5F172EE12
, 5F172NN09
, 5F172ZA01
