特許

J-GLOBAL ID：201403024801076906

芳香族チオール化合物の製造方法

発明者： 相田 冬樹
出願人/特許権者： JX日鉱日石エネルギー株式会社
代理人 (1件)： 秋元 輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-058357
公開番号（公開出願番号）：特開2014-181228
出願日： 2013年03月21日
公開日（公表日）： 2014年09月29日
要約：

【課題】原料として、芳香族ヒドロキシ化合物および硫化水素を用い、高収率で芳香族チオール化合物が得られる、芳香族チオール化合物の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の製造方法によれば、ジルコニアを含む複合金属酸化物、酸担持ジルコニア、又はメソポーラスな細孔を有する金属酸化物または複合金属酸化物から選択される金属酸化物触媒の存在下、芳香族ヒドロキシ化合物と硫化水素とを、加熱下で気相反応させ、特に、置換チオフェノール等の芳香族チオール化合物を高収率で提供し得る。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ジルコニアを含む複合金属酸化物、酸担持ジルコニア、又はメソポーラスな細孔を有する金属酸化物または複合金属酸化物から選択される金属酸化物触媒の存在下、置換芳香族ヒドロキシ化合物と硫化水素とを所定温度の加熱下で気相反応させる工程を含むことを特徴とする、置換芳香族チオール化合物の製造方法。

IPC (7件)：

C07C 319/08 ,  C07C 321/28 ,  B01J 27/188 ,  B01J 27/053 ,  B01J 23/30 ,  B01J 21/08 ,  B01J 21/06

FI (7件)：

C07C319/08 ,  C07C321/28 ,  B01J27/188 Z ,  B01J27/053 Z ,  B01J23/30 Z ,  B01J21/08 Z ,  B01J21/06 Z

Fターム (54件)：

4G169AA02 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BA05B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BB07A ,  4G169BB07B ,  4G169BB10A ,  4G169BB10B ,  4G169BB14A ,  4G169BB14B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169CB25 ,  4G169CB70 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02Y ,  4G169EB18Y ,  4G169FA01 ,  4G169FA02 ,  4G169FB09 ,  4G169FB14 ,  4G169FB16 ,  4G169FB30 ,  4G169FB65 ,  4H006AA02 ,  4H006AC63 ,  4H006BA09 ,  4H006BA10 ,  4H006BA14 ,  4H006BA30 ,  4H006BA33 ,  4H006BA55 ,  4H006BA56 ,  4H006BA66 ,  4H006BA75 ,  4H006BA81 ,  4H006BA82 ,  4H006BC10 ,  4H006BC13 ,  4H006BC19 ,  4H006BE03 ,  4H006BE04 ,  4H006TA04 ,  4H039CA60 ,  4H039CD30

引用特許：

審査官引用 (1件)

• チオール化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-255442   出願人：JX日鉱日石エネルギー株式会社