特許
J-GLOBAL ID：201403025002921837

研磨パッド及びその製造方法

発明者：
草川 公一

草川 公一 について

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世良 範幸

世良 範幸 について

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吉岡 稔

吉岡 稔 について

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松永 貴文

松永 貴文 について

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田中 肇

田中 肇 について


出願人/特許権者：
日本発條株式会社

日本発條株式会社 について


代理人 (3件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-222419
公開番号（公開出願番号）：特開2014-073557
出願日： 2012年10月04日
公開日（公表日）： 2014年04月24日
要約：
【課題】高い研磨性能を有するとともに、研磨定盤による高い保持力を有する研磨パッド及び当該研磨パッドを高い歩留まりで製造することができる研磨パッドの製造方法を提供する。【解決手段】気泡構造を有する発泡ポリウレタンシートを有し、前記発泡ポリウレタンシートの一方の面は気泡が露出した気泡面32であり、他方の面は気泡が露出せずに皮膜を有する皮膜面34であり、前記皮膜面側の表層部における平均気泡径をDs(μm)、前記気泡面側の表層部における平均気泡径をDf(μm)、シートの厚さ方向の中央部における平均気泡径をDm(μm)、としたときに、Ds≦Df<Dmの関係を満たす研磨パッド30。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
気泡構造を有する発泡ポリウレタンシートを有し、前記発泡ポリウレタンシートの一方の面は気泡が露出した気泡面であり、他方の面は気泡が露出せずに皮膜を有する皮膜面であり、前記皮膜面側の表層部における平均気泡径をDs(μm)、前記気泡面側の表層部における平均気泡径をDf(μm)、シートの厚さ方向の中央部における平均気泡径をDm(μm)、としたときに、Ds≦Df<Dmの関係を満たす研磨パッド。
IPC (3件)：
B24B 37/24 ,  H01L 21/304 ,  C08J 9/12
FI (3件)：
B24B37/00 L ,  H01L21/304 622F ,  C08J9/12
Fターム (30件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  4F074AA79 ,  4F074AA80 ,  4F074AD04 ,  4F074AG20 ,  4F074BA34 ,  4F074BC01 ,  4F074CB52 ,  4F074CC04Y ,  4F074CC04Z ,  4F074CC06Z ,  4F074DA02 ,  4F074DA12 ,  4F074DA19 ,  4F074DA56 ,  5F057AA03 ,  5F057AA12 ,  5F057AA24 ,  5F057BA12 ,  5F057BB03 ,  5F057BB07 ,  5F057BB08 ,  5F057BB11 ,  5F057CA11 ,  5F057DA02 ,  5F057EB03 ,  5F057EB06 ,  5F057EB07 ,  5F057EB30
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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