特許
J-GLOBAL ID:201403026078864324
画像形成装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
酒井 正己
, 加々美 紀雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-287450
公開番号(公開出願番号):特開2014-130216
出願日: 2012年12月28日
公開日(公表日): 2014年07月10日
要約:
【課題】ベルト特性のバラツキが小さく、かつ白ポチなどの異常画像が発生し難い画像形成装置の提供。【解決手段】中間転写ベルトを使用した画像形成装置であって、中間転写ベルトは、周長が2000mm以上、駆動線速が350mm/sec以上であり、導電剤を分散させたポリイミド樹脂層を2層積層した構造であり、各層は、同一材料で構成され、ポリイミド樹脂と導電剤の含有割合が同一であり、中間転写べルト外周側表面から測定した500V印加時の表面抵抗率ρs外(Ω/□)の常用対数値をLρs外、ベルト内周側表面から測定した500V印加時の表面抵抗率ρs内の常用対数値をLρs内、100V印加時の体積抵抗率ρv(Ω・cm)の常用対数値をLρvとしたとき、Lρs内=10.00〜12.00、Lρs外-Lρs内>0.25、Lρs外-Lρv<1.50であり、内周面の表面粗さRaが0.20〜0.40μmである画像形成装置。【選択図】なし
請求項(抜粋):
中間転写ベルトを使用した画像形成装置であって、
前記中間転写ベルトは、周長が2000mm以上で、かつ中間転写ベルトの駆動線速が350mm/sec以上であり、
前記中間転写ベルトは、導電剤を分散させたポリイミド樹脂層を2層積層した構造であり、
前記2層のポリイミド樹脂層の各層は、同一材料で構成され、ポリイミド樹脂と導電剤の含有割合が同一であり、
前記ポリイミド樹脂は「3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とp-フェニレンジアミンとがイミド結合したポリイミド樹脂成分(以下S成分と記す)」及び「3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と4,4’-ジアミノジフェニルエーテルとがイミド結合したポリイミド樹脂成分(以下A成分と記す)」が、S成分とA成分の重量比(S/A比)が0/100〜40/60であり、
中間転写べルト外周側表面から測定した500V印加時の表面抵抗率ρs外(Ω/□)の常用対数値をLρs外、ベルト内周側表面から測定した500V印加時の表面抵抗率ρs内の常用対数値をLρs内、100V印加時の体積抵抗率ρv(Ω・cm)の常用対数値をLρvとしたとき、下記の関係を満たし、
Lρs内=10.00〜12.00
Lρs外-Lρs内>0.25
Lρs外-Lρv<1.50
前記中間転写ベルト内周面の表面粗さRa(JIS B0601:’01)が0.20〜0.40μmである
ことを特徴とする画像形成装置。
IPC (3件):
G03G 15/16
, C08G 73/10
, B29C 41/22
FI (3件):
G03G15/16
, C08G73/10
, B29C41/22
Fターム (60件):
2H200FA18
, 2H200GA12
, 2H200GA23
, 2H200GA34
, 2H200GA44
, 2H200GB15
, 2H200HA12
, 2H200HB03
, 2H200JA02
, 2H200JC04
, 2H200JC15
, 2H200JC16
, 2H200JC17
, 2H200JC18
, 2H200LB15
, 2H200MA02
, 2H200MA13
, 2H200MA14
, 2H200MA17
, 2H200MA20
, 2H200MB02
, 2H200MB04
, 2H200MB05
, 2H200MC06
, 4F205AA40
, 4F205AC05
, 4F205AG16
, 4F205AH12
, 4F205AH33
, 4F205GA06
, 4F205GB01
, 4F205GB22
, 4F205GB26
, 4F205GC06
, 4F205GE24
, 4F205GF24
, 4F205GN13
, 4F205GN17
, 4F205GN21
, 4F205GN29
, 4J043PA05
, 4J043QB26
, 4J043RA35
, 4J043SA06
, 4J043SB03
, 4J043TA22
, 4J043TB01
, 4J043UA121
, 4J043UA131
, 4J043UA132
, 4J043UB121
, 4J043UB402
, 4J043VA011
, 4J043VA021
, 4J043VA041
, 4J043YA06
, 4J043ZA31
, 4J043ZA44
, 4J043ZB47
, 4J043ZB51
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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