基板処理装置、シミュレーション装置、プログラムおよびシミュレーション方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人サクラ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-027563
公開番号（公開出願番号）：特開2014-157458
出願日： 2013年02月15日
公開日（公表日）： 2014年08月28日
要約：

【課題】レシピに対するガスフローチャートの状態または稼働中のプロセスの状態を、より詳細に具現化したシミュレーションを行う。【解決手段】基板処理装置のシミュレーション装置は、前記基板を処理する動作モードにより規定されるガスフロー情報を取得する情報取得部と、前記情報取得部により取得された前記ガスフロー情報を基に前記ガスの経路を決定する経路決定部と、前記経路決定部により決定されたガスの経路をガスの種類に応じて規定した色で着色してガスの流れをシミュレーションするシミュレーション部とを具備する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板を収容し前記基板を処理する基板処理室と、前記基板処理室内に接続された基板処理用のガスを導入する配管と、前記配管を通じて前記基板処理用のガスが流れる経路をシミュレーションするシミュレーション装置とを備えた基板処理装置において、前記シミュレーション装置は、前記基板を処理する動作モードにより規定されるガスフロー情報を取得する情報取得部と、前記情報取得部により取得された前記ガスフロー情報を基に前記ガスの経路を決定する経路決定部と、前記経路決定部により決定されたガスの経路を前記ガスの種類に応じて規定した色で着色して前記ガスの流れをシミュレーションするシミュレーション部とを具備する基板処理装置。

IPC (3件)：

G06F 17/50 , G05B 23/02 , H01L 21/02

FI (6件)：

G06F17/50 612C , G06F17/50 650C , G06F17/50 612A , G05B23/02 G , G05B23/02 301T , H01L21/02 Z

Fターム (8件)：

5B046AA02 , 5B046BA05 , 5B046JA04 , 5H223AA01 , 5H223BB01 , 5H223DD03 , 5H223EE06 , 5H223FF03

引用特許：

審査官引用 (3件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-197151 出願人：株式会社日立国際電気
配管内状態表示方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-354468 出願人：株式会社日立製作所, 日立エンジニアリング株式会社
シーケンス設計支援システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-315443 出願人：株式会社日立プラントテクノロジー

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