基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-197151
公開番号（公開出願番号）：特開2010-102693
出願日： 2009年08月27日
公開日（公表日）： 2010年05月06日
要約：

【課題】ガス配管内のガスの流れが電磁バルブを実際に開閉する前に表示されることで、誤った操作による電磁バルブの開閉し忘れ、或は誤ったガスの混合による危険を防止し、安全性の向上を図る。【解決手段】ガス配管路1に設けられたバルブ2,3,36,38の開閉要求状態及び開閉状態を検出する状態検出部44と、前記バルブの開閉要求状態により予測される前記ガス配管路を流れるガスの予測状態と、前記バルブを開いて前記ガス配管路を流れるガスの状態とを状態毎に識別表示する表示部44とを具備する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ガス配管路に設けられたバルブの開閉要求状態及び開閉状態を検出する状態検出部と、前記バルブの開閉要求状態により予測される前記ガス配管路を流れるガスの予測状態と、前記バルブを開いて前記ガス配管路を流れるガスの状態とを状態毎に識別表示する表示部とを具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (8件)：

G05B 23/02 , G01F 1/00 , H01L 21/324 , H01L 21/22 , C23C 16/455 , C23C 16/44 , C23C 14/52 , H01L 21/31

FI (8件)：

G05B23/02 301T , G01F1/00 Y , H01L21/324 R , H01L21/22 511S , C23C16/455 , C23C16/44 E , C23C14/52 , H01L21/31 E

Fターム (25件)：

2F030CC11 , 2F030CE24 , 2F030CF05 , 2F030CF08 , 4K029DA02 , 4K029DA03 , 4K029DA04 , 4K029EA03 , 4K029EA04 , 4K030EA01 , 4K030EA11 , 4K030KA39 , 4K030KA43 , 5F045AA06 , 5F045AA20 , 5F045BB20 , 5F045DP19 , 5F045EE04 , 5F045EE11 , 5F045EK06 , 5F045EN05 , 5F045GB04 , 5H223AA20 , 5H223EE28 , 5H223FF05

引用特許：

審査官引用 (7件)

半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-211224 出願人：株式会社日立国際電気
配水管網における汚染物質拡散状態の推定方法及び推定結果の表示方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-290532 出願人：富士電機株式会社
配管内状態表示方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-354468 出願人：株式会社日立製作所, 日立エンジニアリング株式会社

全件表示

前のページに戻る