蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小川護晃 , 西山春之 , 奥山尚一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-081096
公開番号（公開出願番号）：特開2014-201819
出願日： 2013年04月09日
公開日（公表日）： 2014年10月27日
要約：

【課題】製造が容易で、且つマスクの大型化に容易に対応する。【解決手段】蒸着して基板上に複数の薄膜パターンを形成するための蒸着マスクであって、一面1aに磁性体粉末を含む磁性層2を備える樹脂製のベースフィルム1に、前記複数の薄膜パターンに対応して貫通する複数の開口パターン4を形成したものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

蒸着して基板上に複数の薄膜パターンを形成するための蒸着マスクであって、一面に磁性体粉末を含む磁性層を備える樹脂製のベースフィルムに、前記複数の薄膜パターンに対応して貫通する複数の開口パターンを形成したことを特徴とする蒸着マスク。

IPC (3件)：

C23C 14/24 , H01L 51/50 , H05B 33/10

FI (3件)：

C23C14/24 G , H05B33/14 A , H05B33/10

Fターム (14件)：

3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC35 , 3K107CC42 , 3K107CC45 , 3K107FF05 , 3K107FF15 , 3K107GG04 , 3K107GG33 , 4K029BA62 , 4K029BB03 , 4K029CA01 , 4K029DB06 , 4K029HA01

引用特許：

審査官引用 (4件)

合成樹脂薄膜のパターン作成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-210671 出願人：松下電器産業株式会社
特開昭63-079958
パターン形成用マスクおよびそれを使用したパターン形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-031898 出願人：凸版印刷株式会社

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