特許

J-GLOBAL ID：201403034065844351

パルススパッタ装置

発明者： 塚本 恵三
出願人/特許権者： 株式会社アヤボ
代理人 (3件)： 小西 富雅 ,  中村 知公 ,  木村 誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-038798
公開番号（公開出願番号）：特開2014-224277
出願日： 2013年02月28日
公開日（公表日）： 2014年12月04日
要約：

【課題】 パルススパッタ装置に用いる不活性ガス供給・排出装置を小型化する。パルススパッタ装置において不活性ガスが必要とされる場所に対して適切な量の不活性ガスを効率的に供給する。【解決手段】 パルススパッタ装置は、パルス放電を行い、プラズマを発生させるスパッタ源と、スパッタ源に対して不活性ガスを噴射し供給するガス噴射弁と、スパッタ源及びガス噴射弁を制御する制御手段と、を備える。制御手段は、ガス噴射弁が間欠的に不活性ガスを噴射するように、かつ、スパッタ源においてパルス放電が発生する期間が、ガス噴射弁により不活性ガスを噴射し供給する期間内に含まれるように、スパッタ源及びガス噴射弁を制御する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

パルススパッタ装置であって、 パルス放電を行い、プラズマを発生させるスパッタ源と、 前記スパッタ源に対して不活性ガスを噴射し供給するガス噴射弁と、 前記スパッタ源及び前記ガス噴射弁を制御する制御手段と、を備え、 前記制御手段は、前記ガス噴射弁が間欠的に前記不活性ガスを噴射するように、かつ、前記スパッタ源においてパルス放電が発生する期間が、前記ガス噴射弁により前記不活性ガスを噴射し供給する期間内に含まれるように、前記スパッタ源及び前記ガス噴射弁を制御する、ことを特徴とするパルススパッタ装置。

IPC (1件)：

C23C 14/34

FI (1件)：

C23C14/34 M

Fターム (7件)：

4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029CA13 ,  4K029DA06 ,  4K029DC20 ,  4K029DC39 ,  4K029EA06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭61-261473
  
• TOF質量分析によるHIPIMSスパッタ源のプラズマ解析方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-243309   出願人：株式会社アヤボ, 国立大学法人東北大学