特許
J-GLOBAL ID：201403034123019927
ダイサイズの最適化方法、パターン設計方法及びコンピュータプログラム製品
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-118248
公開番号（公開出願番号）：特開2012-253341
特許番号：特許第5499081号
出願日： 2012年05月24日
公開日（公表日）： 2012年12月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 リソグラフィ装置を用いてデバイスを製造する方法においてダイのサイズを最適化する方法であって、前記リソグラフィ装置は、単一露光ステップで可変サイズのイメージフィールドを露光するようになされており、該イメージフィールドは、ある最大サイズを有し、当該方法は、
ダイの所望の面積を受け取るステップと、
ダイのターゲットアスペクト比を計算するステップと、を含み、
前記ターゲットアスペクト比は、前記リソグラフィ装置を用いて1時間当たりに結像可能な良好なダイの数を最大化するように決定され、
複数のダイが単一露光ステップで露光できるように、前記ダイは前記イメージフィールドの最大サイズよりも小さく、
前記ターゲットアスペクト比を計算するステップは、メリット数MFを最大化する第1のターゲットアスペクト比を見つけることを含み、MFは、前記イメージフィールド当たりのダイの数を各基板上の露光回数で除した比率である、方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 1/68 ( 201 2.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
H01L 21/30 514 C
, H01L 21/30 514 B
, G03F 1/68
, G03F 7/20 521
