特許
J-GLOBAL ID：201403034142798325

基板処理装置

発明者：
長田 直之

長田 直之 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫 ,  安田 昌秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-228659
公開番号（公開出願番号）：特開2014-039064
出願日： 2013年11月01日
公開日（公表日）： 2014年02月27日
要約：
【課題】基板処理部に至るまでの流路長のばらつきを抑制または防止すること。【解決手段】基板処理装置は、処理液で基板を処理する複数の基板処理部と、複数の基板処理部に処理液を供給する複数の処理液供給部と、を備える。各処理液供給部は、対応する基板処理部に処理液を供給する、流体ボックスに収容された複数の処理液供給モジュール22を含む。各処理液供給モジュール22は、所定の大きさに統一されたトレー27と、トレー27に取り付けられた処理液供給配管28と、を含む。各処理液供給モジュール22は、所定の大きさに統一されている。トレー27に対する処理液供給配管28の一端28aおよび他端28bの位置が、複数の処理液供給モジュール22間で統一されている。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
処理液で基板を処理する複数の基板処理部と、前記複数の基板処理部に処理液を供給する複数の処理液供給部と、を備える、基板処理装置であって、 前記複数の処理液供給部は、前記複数の基板処理部と1対1で対応する複数の流体ボックスを含み、前記複数の基板処理部と前記複数の流体ボックスとは、複数の対を形成しており、 各基板処理部は、対の流体ボックスに隣接しており、 各処理液供給部は、対の基板処理部に処理液を供給する、前記流体ボックスに収容された複数の処理液供給モジュールを含み、 各処理液供給モジュールは、所定の大きさに統一されたトレーと、前記トレーに取り付けられた処理液供給配管と、を含むとともに、所定の大きさに統一されており、 前記トレーに対する前記処理液供給配管の一端および他端の位置が、前記複数の処理液供給モジュール間で統一されている、基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/306
FI (4件)：
H01L21/304 648G ,  H01L21/304 648F ,  H01L21/304 648K ,  H01L21/306 R
Fターム (25件)：
5F043DD13 ,  5F043DD23 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE27 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB48 ,  5F157AB51 ,  5F157AB90 ,  5F157AC26 ,  5F157BB23 ,  5F157BB66 ,  5F157CC02 ,  5F157CE10 ,  5F157CF14 ,  5F157CF42 ,  5F157CF60 ,  5F157CF62 ,  5F157CF99 ,  5F157DB37 ,  5F157DB47 ,  5F157DC86
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM