特許
J-GLOBAL ID：200903043731586582

バッファタンク、中間貯留装置、液処理装置及び処理液の供給方法

発明者：
木村 義雄

木村 義雄 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-199427
公開番号（公開出願番号）：特開2008-072096
出願日： 2007年07月31日
公開日（公表日）： 2008年03月27日
要約：
【課題】作業性がよく、装置構成がコンパクトで液漏れ等のトラブルの少ないバッファタンク、中間貯留装置、液処理装置及び液処理ユニットへの処理液の供給方法を提供する。【解決手段】液処理装置の供給タンクから供給ノズルへと供給される処理液の供給経路の途中に設置されるバッファタンク3において、そのバッファタンク容器31内に、このタンク本体内を貯留部37aをなす第1の貯留領域と、第2の貯留領域とに仕切る仕切り部材(隔壁部39a)と、仕切り部材の一部を構成し、第1の貯留領域から第2の貯留領域への通路をなすろ過用のフィルタ38aと、第1の貯留領域に溜まった気泡を排出するための第1のベント(1次ベントポート部34)と、を備えている。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板の表面に供給ノズルから処理液を供給して所定の液処理を行う液処理装置に用いられ、処理液の供給タンクと供給ノズルとの間の処理液の流路に備えられるバッファタンクにおいて、 前記供給タンクからの処理液をバッファタンク本体内に導入するための導入ポート部と、 導入された処理液を貯留するための第1の貯留領域と、 この第1の貯留領域に溜まった気泡を排出するための第1のベントポート部と、 前記第1の貯留領域内の処理液が通過し、当該処理液をろ過するためのフィルタと、 このフィルタにてろ過された処理液を供給ノズル側に供給するための供給ポート部と、を備えたことを特徴とするバッファタンク。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/10
FI (3件)：
H01L21/30 564C ,  H01L21/30 569C ,  B05C11/10
Fターム (10件)：
2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA21 ,  4F042AA06 ,  4F042CA01 ,  4F042CA07 ,  5F046JA01 ,  5F046JA08 ,  5F046JA09 ,  5F046LA03
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (10件)
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