特許

J-GLOBAL ID：201403035281633582

含フッ素基修飾ポリシルセスキオキサン液体、含フッ素基修飾ポリシルセスキオキサンガラス及びこれらの製造方法

発明者： 梶原 浩一 ,  福田 祐子 ,  櫻木 新 ,  金村 聖志
出願人/特許権者： 公立大学法人首都大学東京
代理人 (5件)： 小野 新次郎 ,  小林 泰 ,  富田 博行 ,  星野 修 ,  松山 美奈子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-023079
公開番号（公開出願番号）：特開2014-152246
出願日： 2013年02月08日
公開日（公表日）： 2014年08月25日
要約：

【解決課題】紫外透明性、低温成形性、耐熱性に優れ、薄膜形成が可能な低屈折率低分散低密度の含フッ素基修飾ポリフルオロシルセスキオキサンガラス、及び当該含フッ素基修飾ポリフルオロシルセスキオキサンガラスの前駆体となる含フッ素基修飾ポリフルオロシルセスキオキサン液体、及びこれらを簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】共溶媒として有機溶媒を用いずに、含フッ素基修飾3官能ケイ素アルコキシドと水と酸触媒とからなる混合物を加水分解及び重縮合させた後、含フッ素基修飾3官能ケイ素アルコキシドの加水分解によって生じるアルコールを除去し、熱処理することを含む、含フッ素基修飾ポリフルオロシルセスキオキサンガラスの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

共溶媒として有機溶媒を用いずに、含フッ素基修飾3官能ケイ素アルコキシドと水と酸触媒とからなる混合物を加水分解及び重縮合させた後、含フッ素基修飾3官能ケイ素アルコキシドの加水分解によって生じるアルコールを除去することを含む含フッ素基修飾ポリシルセスキオキサン液体の製造方法。

IPC (1件)：

C08G 77/24

FI (1件)：

C08G77/24

Fターム (27件)：

4J246AA03 ,  4J246AB06 ,  4J246AB15 ,  4J246BA12X ,  4J246BA120 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB022 ,  4J246CA46E ,  4J246CA46X ,  4J246CA460 ,  4J246FA071 ,  4J246FA131 ,  4J246FA321 ,  4J246FA421 ,  4J246FA471 ,  4J246FB031 ,  4J246FE07 ,  4J246FE33 ,  4J246GB02 ,  4J246GB14 ,  4J246GC23 ,  4J246GC24 ,  4J246HA11 ,  4J246HA36 ,  4J246HA45 ,  4J246HA61

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 被膜形成用組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-237490   出願人：信越化学工業株式会社
• 反射防止性を有する光学物品及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-218413   出願人：東レ株式会社
• ハードコートフィルムおよびその製造方法、ならびにそれを用いた反射防止フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-206444   出願人：東レ株式会社
• ポリシルセスキオキサン液体及びポリシルセスキオキサンガラスならびにその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-024792   出願人：公立大学法人首都大学東京