多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大塚武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-289238
公開番号（公開出願番号）：特開2014-130976
出願日： 2012年12月29日
公開日（公表日）： 2014年07月10日
要約：

【課題】多層反射膜における反射率の面内分布を抑制できる多層反射膜付き基板の製造方法を提供する。【解決手段】イオンビームスパッタリング法を用いて、基板上に、該基板をその中心軸を中心に回転しつつ、低屈折率層(例えばシリコン層)と高屈折率層(例えばモリブデン層)をこの順に成膜したものを1周期として40周期程度積層して多層反射膜を形成する。ここで、多層反射膜の少なくとも上層(例えば10周期程度)の成膜時に、各層(低屈折率層、高屈折率層)の成膜開始時の基板の方位角を90度ずつ変更して成膜する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に露光光を反射する多層反射膜を備える多層反射膜付き基板の製造方法であって、前記多層反射膜は、前記基板上に、該基板をその中心軸を中心に回転しつつ、低屈折率層と高屈折率層をこの順にスパッタ成膜したものを1周期として複数周期積層した構成のものであり、前記低屈折率層及び前記高屈折率層における成膜開始時の前記基板の方位角を異ならせて成膜することを特徴とする多層反射膜付き基板の製造方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/24 , G03F 1/52

FI (3件)：

H01L21/30 531M , G03F1/24 , G03F1/52

Fターム (12件)：

2H095BA01 , 2H095BA02 , 2H095BA10 , 2H095BB25 , 2H095BB35 , 2H095BC11 , 2H095BC16 , 5F146GA21 , 5F146GA28 , 5F146GD03 , 5F146GD16 , 5F146GD23

引用特許：

審査官引用 (4件)

多層膜成膜方法、多層膜成膜装置、多層膜反射鏡及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-189316 出願人：株式会社ニコン
特許第4858539号
フォトマスク・ブランク、フォトマスク、フォトマスク・ブランクを製造するための方法と装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-036249 出願人：カール-ツアイス-シュティフツンク

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