特許

J-GLOBAL ID：201403036135563765

精製二酸化炭素の供給システムおよび方法

発明者： 中森 理 ,  小野 義宣 ,  菅原 広
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (3件)： 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-253351
公開番号（公開出願番号）：特開2014-101241
出願日： 2012年11月19日
公開日（公表日）： 2014年06月05日
要約：

【課題】チャンバへ圧送される高圧の液体もしくは超臨界CO2が、該チャンバと繋がる配管内もしくは該チャンバ内でCO2ガスとドライアイスの状態に変化してしまい、パーティクルなどの不純物の発生や、ウェハへのダメージを引き起こすという課題を解消する方法を提供する。【解決手段】精製二酸化炭素の供給システムは、ウェハ洗浄用チャンバ(ユースポイント30)と、二酸化炭素を精製し液体もしくは超臨界状態で該チャンバへ供給する二酸化炭素供給装置(循環系10)とを備える。さらに、この供給システムは、該二酸化炭素供給装置から該チャンバへ該液体もしくは超臨界状態の二酸化炭素を供給する配管25を有し、二酸化炭素ガス等の加圧ガスを少なくとも配管25及び該チャンバの一方に導入して配管25内および該チャンバ内の少なくとも一部の圧力を上昇させるガス導入手段(配管26、CO2ガス源27、開閉弁28)をさらに備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

二酸化炭素を精製し液体又は超臨界状態にする二酸化炭素精製手段と、前記液体又は超臨界状態の二酸化炭素をユースポイントへ供給する二酸化炭素供給手段と、を有する精製二酸化炭素の供給システムであって、 前記二酸化炭素供給手段の少なくとも一部に加圧ガスを導入するガス導入手段をさらに備えたことを特徴とする精製二酸化炭素の供給システム。

IPC (4件)：

C01B 31/20 ,  F17C 7/02 ,  B01J 4/00 ,  B01J 3/02

FI (4件)：

C01B31/20 B ,  F17C7/02 ,  B01J4/00 103 ,  B01J3/02 A

Fターム (24件)：

3E172AA02 ,  3E172AA06 ,  3E172AB20 ,  3E172BA01 ,  3E172BB12 ,  3E172BB17 ,  3E172BD05 ,  3E172EB03 ,  3E172EB10 ,  3E172EB11 ,  3E172EB17 ,  3E172EB20 ,  4G068AA01 ,  4G068AB11 ,  4G068AB30 ,  4G068AC20 ,  4G068AD40 ,  4G068AF01 ,  4G068AF06 ,  4G068AF12 ,  4G146JA04 ,  4G146JC10 ,  4G146JC36 ,  4G146JC39

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 流体供給システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-151051   出願人：オルガノ株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所, 関西電力株式会社
• 超臨界二酸化炭素プロセス中の汚染物の形成を低減する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-563744   出願人：東京エレクトロン株式会社