特許
J-GLOBAL ID:201403036158385406

還元型酸化グラフェンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  箱田 篤 ,  浅井 賢治 ,  山崎 一夫 ,  市川 さつき
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-004180
公開番号(公開出願番号):特開2014-136653
出願日: 2013年01月15日
公開日(公表日): 2014年07月28日
要約:
【課題】キャパシタなどの材料として有用な金属非ドープ又は金属ドープ還元型酸化グラフェンを製造する方法を提供する。【解決手段】酸化グラフェンを、100〜400°Cにおいて加熱する。酸化グラフェンは、(1)90〜98質量%の硫酸を含む反応媒体において、場合により、金属又は金属化合物とともに、スルフォン化用固体酸触媒の存在下において、レーザアブレーションを行い、次いで、60〜98質量%の硝酸及び強酸化剤を撹拌下に添加して、スルフォン化グラファイトを含有する懸濁液を調製する工程、(2)得られた懸濁液に水及び25〜40質量%の塩酸を添加して、スルフォン化グラファイトを加水分解することにより得られる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
金属ドープ酸化グラフェンの製造方法であって、以下の工程、 (1)90〜98質量%の硫酸を含む反応媒体において、金属又は金属酸化物とともに、スルフォン化用固体酸触媒の存在下において、レーザアブレーションを行い、次いで、60〜98質量%の硝酸及び強酸化剤を撹拌下に添加して、スルフォン化グラファイトを含有する懸濁液を調製する工程、 (2)得られた懸濁液に水及び25〜40質量%の塩酸を添加して、スルフォン化グラファイトを加水分解する工程、 を有することを特徴とする、金属ドープ酸化グラフェンの製造方法。
IPC (1件):
C01B 31/02
FI (1件):
C01B31/02 101Z
Fターム (12件):
4G146AA01 ,  4G146AA16 ,  4G146AB07 ,  4G146BA02 ,  4G146BB10 ,  4G146BB12 ,  4G146BB15 ,  4G146BC15 ,  4G146BC42 ,  4G146BC43 ,  4G146BC47 ,  4G146CB13
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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