特許

J-GLOBAL ID：201403036158385406

還元型酸化グラフェンの製造方法

発明者： 伊澤 和子 ,  渋谷 愛 ,  小▲柳▼ 三穂 ,  牧野 友幸
出願人/特許権者： 株式会社MICC TEC
代理人 (6件)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  箱田 篤 ,  浅井 賢治 ,  山崎 一夫 ,  市川 さつき
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-004180
公開番号（公開出願番号）：特開2014-136653
出願日： 2013年01月15日
公開日（公表日）： 2014年07月28日
要約：

【課題】キャパシタなどの材料として有用な金属非ドープ又は金属ドープ還元型酸化グラフェンを製造する方法を提供する。【解決手段】酸化グラフェンを、100〜400°Cにおいて加熱する。酸化グラフェンは、(1)90〜98質量%の硫酸を含む反応媒体において、場合により、金属又は金属化合物とともに、スルフォン化用固体酸触媒の存在下において、レーザアブレーションを行い、次いで、60〜98質量%の硝酸及び強酸化剤を撹拌下に添加して、スルフォン化グラファイトを含有する懸濁液を調製する工程、(2)得られた懸濁液に水及び25〜40質量%の塩酸を添加して、スルフォン化グラファイトを加水分解することにより得られる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

金属ドープ酸化グラフェンの製造方法であって、以下の工程、 (1)90〜98質量%の硫酸を含む反応媒体において、金属又は金属酸化物とともに、スルフォン化用固体酸触媒の存在下において、レーザアブレーションを行い、次いで、60〜98質量%の硝酸及び強酸化剤を撹拌下に添加して、スルフォン化グラファイトを含有する懸濁液を調製する工程、 (2)得られた懸濁液に水及び25〜40質量%の塩酸を添加して、スルフォン化グラファイトを加水分解する工程、 を有することを特徴とする、金属ドープ酸化グラフェンの製造方法。

IPC (1件)：

C01B 31/02

FI (1件)：

C01B31/02 101Z

Fターム (12件)：

4G146AA01 ,  4G146AA16 ,  4G146AB07 ,  4G146BA02 ,  4G146BB10 ,  4G146BB12 ,  4G146BB15 ,  4G146BC15 ,  4G146BC42 ,  4G146BC43 ,  4G146BC47 ,  4G146CB13

引用特許：

審査官引用 (3件)

• グラフェン、蓄電装置および電気機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-125484   出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
• グラフェン・エアロゲルおよびグラフェン酸化物エアロゲル
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2011-539507   出願人：タイコ・エレクトロニクス・コーポレイション
• 固体酸及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-252649   出願人：富士電機ホールディングス株式会社