特許
J-GLOBAL ID:201403038823118298
高分子洗浄用ビルダー
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
大谷 保
, 片岡 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-189962
公開番号(公開出願番号):特開2014-047264
出願日: 2012年08月30日
公開日(公表日): 2014年03月17日
要約:
【課題】優れた洗浄性能を有すると共に、少量の洗濯水であっても汚れの再付着を効果的に抑制することができる高分子洗浄用ビルダー及び洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】架橋性モノマー由来の構成単位(A)と、該構成単位(A)以外の構成単位であって、アニオン性官能基を有するモノマー由来の構成単位、カチオン性官能基を有するモノマー由来の構成単位、及び親水性官能基を有するノニオン性モノマー由来の構成単位から選ばれる1種又は2種以上の構成単位(B)とを有し、該構成単位(A)の割合が0.05mol%以上、10mol%以下、該構成単位(B)の割合が80mol%以上、99.95mol%以下である高分子洗浄用ビルダー。【選択図】なし
請求項(抜粋):
架橋性モノマー由来の構成単位(A)と、該構成単位(A)以外の構成単位であって、アニオン性官能基を有するモノマー由来の構成単位、カチオン性官能基を有するモノマー由来の構成単位、及び親水性官能基を有するノニオン性モノマー由来の構成単位から選ばれる1種又は2種以上の構成単位(B)とを有し、該構成単位(A)の割合が0.05mol%以上、10mol%以下、該構成単位(B)の割合が80mol%以上、99.95mol%以下である高分子洗浄用ビルダー。
IPC (3件):
C11D 7/22
, C08F 220/02
, C11D 3/37
FI (3件):
C11D7/22
, C08F220/02
, C11D3/37
Fターム (30件):
4H003AB19
, 4H003BA12
, 4H003DA01
, 4H003EA16
, 4H003EB28
, 4H003EB30
, 4H003EB32
, 4H003EB38
, 4H003ED02
, 4H003FA06
, 4J100AJ02P
, 4J100AJ02Q
, 4J100AJ08Q
, 4J100AL08Q
, 4J100AL09Q
, 4J100AL66Q
, 4J100AL66R
, 4J100AM19Q
, 4J100AM21Q
, 4J100AM24P
, 4J100AM24Q
, 4J100AM24R
, 4J100BA08Q
, 4J100BA08R
, 4J100BA32Q
, 4J100BA56Q
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100EA09
, 4J100JA57
引用特許:
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