特許
J-GLOBAL ID：201403039416657660
パターン形成方法及びテンプレート
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日向寺 雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-192568
公開番号（公開出願番号）：特開2014-049658
出願日： 2012年08月31日
公開日（公表日）： 2014年03月17日
要約：
【課題】テンプレートから転写された複数のパターンを高精度で配列できるパターン形成方法及びテンプレートを提供する。【解決手段】実施形態によれば、パターン形成方法は、硬化したインプリントレジスト11からテンプレート20を離し、テンプレート20の非インプリント部31に形成されたアライメントマーク35を、インプリントレジスト11には接触させずに、アライメントパターン25の転写パターン42に対して位置決めして、硬化したインプリントレジスト11の隣のショット領域に供給された未硬化のインプリントレジスト11に、テンプレート20のメインパターン23及びアライメントパターン25を接触させる工程を備えている。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
メサ部と、前記メサ部よりも外側の領域で前記メサ部に対してくぼんで設けられた非インプリント部とを有するテンプレートにおける前記メサ部にいずれも凹凸パターンとして形成されたメインパターン及びアライメントパターンを、被加工体上に供給された未硬化のインプリントレジストに接触させる工程と、
前記テンプレートが接触した状態で前記インプリントレジストを硬化させ、前記インプリントレジストに、前記メインパターンの転写パターンと、前記アライメントパターンの転写パターンとを形成する工程と、
前記硬化したインプリントレジストから前記テンプレートを離し、前記テンプレートの前記非インプリント部に形成されたアライメントマークを、前記インプリントレジストには接触させずに、前記アライメントパターンの転写パターンに対して位置決めして、前記硬化したインプリントレジストの隣のショット領域に供給された未硬化のインプリントレジストに、前記テンプレートの前記メインパターン及び前記アライメントパターンを接触させる工程と、
前記テンプレートが接触した状態で前記隣のショット領域の前記インプリントレジストを硬化させ、前記インプリントレジストに前記メインパターンの転写パターンと、前記アライメントパターンの転写パターンとを形成する工程と、
を備えたパターン形成方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 502D
, H01L21/30 502M
, B29C59/02 B
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AJ06
, 4F209AK03
, 4F209AM32
, 4F209AQ01
, 4F209AR07
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 5F146AA31
, 5F146AA32
, 5F146EB10
, 5F146EC05
