特許
J-GLOBAL ID:201403039518420584

パターン形成方法及びパターン形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 日向寺 雅彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-106546
公開番号(公開出願番号):特開2014-229670
出願日: 2013年05月20日
公開日(公表日): 2014年12月08日
要約:
【課題】パターン形成のスループットの向上を図ることができるパターン形成方法及びパターン形成装置を提供すること。【解決手段】実施形態に係るパターン形成方法は、第1パターンを有するモールドを用意する工程と、第2パターンを有する基板を用意する工程と、前記基板の上に感光性樹脂を塗布する工程と、モールドを前記感光性樹脂に接触させる工程と、第1パターンと第2パターンとの間に感光性樹脂が充填されたか否かを判定する工程と、第1パターンと第2パターンとの間に感光性樹脂が充填されている場合には第1基準に従い第1パターンと第2パターンとの位置合わせを行い、第1パターンと第2パターンとの間に感光性樹脂が充填されていない場合には第1基準とは異なる第2基準に従い第1パターンと第2パターンとの位置合わせを行う工程と、感光性樹脂を硬化させる工程と、モールドを感光性樹脂から引き離す工程と、を備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1パターンを有するモールドを用意する工程と、 第2パターンを有する基板を用意する工程と、 前記基板の上に感光性樹脂を塗布する工程と、 前記モールドを前記感光性樹脂に接触させる工程と、 前記第1パターンと前記第2パターンとの間に照射した光の反射光の情報によって前記第1パターンと前記第2パターンとの間に前記感光性樹脂が充填されたか否かを判定する工程と、 前記第1パターンと前記第2パターンとの間に前記感光性樹脂が充填されている場合には、前記第1パターンと前記第2パターンとの位置ずれの情報を検出するための第1範囲を含む第1基準に従い前記第1パターンと前記第2パターンとの位置合わせを行い、前記第1パターンと前記第2パターンとの間に前記感光性樹脂が充填されていない場合には、前記位置ずれの情報を検出するための前記第1範囲とは異なる第2範囲を含む第2基準に従い前記第1パターンと前記第2パターンとの位置合わせを行う工程と、 前記感光性樹脂を硬化させる工程と、 前記モールドを前記感光性樹脂から引き離す工程と、 を備えたパターン形成方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (3件):
H01L21/30 502D ,  H01L21/30 520Z ,  B29C59/02 Z
Fターム (19件):
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AP06 ,  4F209AP19 ,  4F209AQ01 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PJ06 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  5F146AA31 ,  5F146DB01 ,  5F146DB14 ,  5F146EA07
引用特許:
審査官引用 (3件)

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