特許
J-GLOBAL ID:201403042767974086
多孔性高分子金属錯体、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置
発明者:
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 亀松 宏
, 永坂 友康
, 小林 良博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-039965
公開番号(公開出願番号):特開2014-166969
出願日: 2013年02月28日
公開日(公表日): 2014年09月11日
要約:
【課題】新規な多孔性高分子金属錯体及びこれを用いた優れた特性を有するガス吸着材を提供すること。前記特性を有するガス吸着材を内部に収容してなるガス貯蔵装置およびガス分離装置を併せて提供すること。【解決手段】次式(1) [MX]n (1)(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xは5位にパーフルオロアルキル基を有するイソフタル酸アニオンである。nは、[MX]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)で表され、2種類のSBUから成る三次元のネットワーク構造を有している多孔性高分子金属錯体と、それのガス吸着材としての利用ならびにこれを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記式(1)
[MX]n (1)
(式中、Mは2価の遷移金属イオン、Xは5位にパーフルオロアルキル基を有するイソフタル酸アニオンである。nは、[MX]から成る構成単位が多数集合しているという特性を示すもので、nの大きさは特に限定されない。)
で表され、2種類のSBUから成る三次元のネットワーク構造を有している多孔性高分子金属錯体。
IPC (4件):
C07C 63/72
, F17C 11/00
, B01J 20/26
, B01D 53/02
FI (4件):
C07C63/72
, F17C11/00 A
, B01J20/26 A
, B01D53/02 Z
Fターム (37件):
3E172AA02
, 3E172AA09
, 3E172AB12
, 3E172AB20
, 3E172BA01
, 3E172BB12
, 3E172BB17
, 3E172BD03
, 3E172BD05
, 3E172FA07
, 4D012BA01
, 4D012CA03
, 4D012CA20
, 4D012CB16
, 4D012CD07
, 4D012CG01
, 4D012CG02
, 4G066AC11B
, 4G066AC35B
, 4G066BA22
, 4G066BA31
, 4G066BA36
, 4G066CA35
, 4G066CA37
, 4G066DA01
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB90
, 4H006BJ50
, 4H006BM10
, 4H006BM71
, 4H006BS30
, 4H006BS70
, 4H048AA01
, 4H048AA03
, 4H048AB90
, 4H048VB10
前のページに戻る