基板搬送装置及び基板処理装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：特許業務法人前田特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-233057
公開番号（公開出願番号）：特開2014-099607
出願日： 2013年11月11日
公開日（公表日）： 2014年05月29日
要約：

【課題】基板の搬送を安定して行うことのできる基板搬送装置を提供する。【解決手段】基板搬送装置は、エアベアリング121a及び121bによってスライドされる搬送台110及び120と、エアベアリング121a及び121bの周縁を囲み、エアベアリング121a及び121bから噴射された後に反射されるエア圧を吸収する吸入器122a及び122bとを備える。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

エアベアリングによってスライドされる搬送台と、前記エアベアリングの周縁を囲み、前記エアベアリングから噴射された後に反射されるエア圧を吸収する吸入器と、を備える基板搬送装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , B23K 26/08

FI (2件)：

H01L21/68 K , B23K26/08 D

Fターム (15件)：

4E068AH00 , 4E068DA10 , 4E068DB11 , 5F131AA33 , 5F131AA34 , 5F131BA24 , 5F131CA12 , 5F131DC14 , 5F131DC15 , 5F131EA02 , 5F131EA14 , 5F131EA15 , 5F131EA22 , 5F131EB79 , 5F131EB89

引用特許：

審査官引用 (6件)

流体静圧軸受、移動体装置、露光装置、デバイス製造方法、及び清掃装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-294137 出願人：株式会社ニコン
移動ステージ
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-092360 出願人：株式会社日本製鋼所
位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-051113 出願人：キヤノン株式会社

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