特許
J-GLOBAL ID：201403044206145636
パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
赤尾 謙一郎
, 下田 昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-250411
公開番号（公開出願番号）：特開2014-098798
出願日： 2012年11月14日
公開日（公表日）： 2014年05月29日
要約：
【課題】光照射によって現像を経ずにパターン形成が可能な新規の感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】光及び/又は熱によって分子間で可逆的に二量化し、フォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、フォトクロミック化合物は、アントラセンと、アントラセン又はビフェニル基とを、直鎖有機基で接続してなる構造を有し、二量化を行う波長光を感光性組成物に照射し、凹凸パターンを形成させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光及び/又は熱によって分子間で可逆的に二量化し、フォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、
前記フォトクロミック化合物は、アントラセンと、アントラセン又はビフェニル基とを、直鎖有機基で接続してなる構造を有し、
前記二量化を行う波長光を前記感光性組成物に照射し、凹凸パターンを形成させるパターン形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
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