特許
J-GLOBAL ID:201403046225971264
パターン形成方法及び該方法に使用するための感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (15件):
蔵田 昌俊
, 高倉 成男
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 井関 守三
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-149543
公開番号(公開出願番号):特開2014-010436
出願日: 2012年07月03日
公開日(公表日): 2014年01月20日
要約:
【課題】局所的なパターン寸法の均一性及びラインウィズスラフネスに優れたパターンを形成可能とするパターン形成方法、及び該方法に使用するための感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】パターン形成方法は、(ア)環状炭酸エステル構造を有する繰り返し単位(P1)および下記一般式(P2-1)で表される繰り返し単位(P2)を含む樹脂(P)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を含む膜を形成する工程と、(イ)該膜に活性光線又は放射線を照射する工程と、(ウ)前記膜を現像し、パターンを形成する工程とを含む。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(ア)環状炭酸エステル構造を有する繰り返し単位(P1)および下記一般式(P2-1)で表される繰り返し単位(P2)を含む樹脂(P)と、
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)と
を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を含む膜を形成する工程と、
(イ)該膜に活性光線又は放射線を照射する工程と、
(ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて前記活性光線又は放射線を照射した膜を現像し、ネガ型のパターンを形成する工程と
を含むパターン形成方法:
IPC (5件):
G03F 7/039
, G03F 7/32
, G03F 7/038
, H01L 21/027
, C08F 220/26
FI (5件):
G03F7/039 601
, G03F7/32
, G03F7/038 601
, H01L21/30 502R
, C08F220/26
Fターム (79件):
2H096AA25
, 2H096BA06
, 2H096GA03
, 2H125AF16P
, 2H125AF17P
, 2H125AF18P
, 2H125AF19P
, 2H125AF21P
, 2H125AF27P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AF70P
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH22
, 2H125AH24
, 2H125AH25
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ66X
, 2H125AJ67X
, 2H125AJ68X
, 2H125AL03
, 2H125AL11
, 2H125AM22P
, 2H125AM66P
, 2H125AM86P
, 2H125AM91P
, 2H125AM94P
, 2H125AM99P
, 2H125AN08P
, 2H125AN37P
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN45P
, 2H125AN54P
, 2H125AN56P
, 2H125AN57P
, 2H125AN62P
, 2H125AN63P
, 2H125AN82P
, 2H125AN86P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC01
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4J100AL03Q
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA02R
, 4J100BA03P
, 4J100BA03R
, 4J100BA04P
, 4J100BA11P
, 4J100BC02Q
, 4J100BC03Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC08Q
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC12Q
, 4J100BC43P
, 4J100BC52P
, 4J100BC60P
, 4J100BC79P
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA37
, 4J100JA38
引用特許:
前のページに戻る