特許

J-GLOBAL ID：201403048637402615

対向電極型プラズマ発生装置

発明者： 萬谷 俊一 ,  沖野 晃俊 ,  宮原 秀一 ,  中島 尚紀 ,  高松 利寛 ,  大下 貴也
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社 ,  プラズマファクトリー株式会社
代理人 (6件)： 千葉 剛宏 ,  宮寺 利幸 ,  大内 秀治 ,  仲宗根 康晴 ,  坂井 志郎 ,  山野 明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-274507
公開番号（公開出願番号）：特開2014-118604
出願日： 2012年12月17日
公開日（公表日）： 2014年06月30日
要約：

【課題】成膜スピードの向上を図る対向電極型プラズマ発生装置を提供する。【解決手段】対向電極型プラズマ発生装置14において、一対の電極50、52間の距離が第1距離L1に設定された第1経路80と、一対の電極54、56間の距離が第1距離L1より短い第2距離L2に設定された第2経路82と、を備え、第1経路80には、不活性ガス、又は、気相原材料及び不活性ガスを有する混合ガスが供給され、第2経路82には、気相原材料及び不活性ガスを有する混合ガスが供給され、第2経路82に供給される気相原材料の濃度は、第1経路80に供給される気相原材料の濃度より高い。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

対向電極型プラズマ発生装置において、 一対の電極間の距離が第1距離に設定された第1経路と、 一対の電極間の距離が前記第1距離より短い第2距離に設定された第2経路と、 を備え、 前記第1経路には、不活性ガス、又は、気相原材料及び不活性ガスを有する混合ガスが供給され、 前記第2経路には、気相原材料及び不活性ガスを有する混合ガスが供給され、 前記第2経路に供給される気相原材料の濃度は、前記第1経路に供給される気相原材料の濃度より高い ことを特徴とする対向電極型プラズマ発生装置。

IPC (3件)：

C23C 14/12 ,  C23C 16/505 ,  H05H 1/24

FI (3件)：

C23C14/12 ,  C23C16/505 ,  H05H1/24

Fターム (9件)：

4K029AA11 ,  4K029DA04 ,  4K030EA03 ,  4K030FA01 ,  4K030JA03 ,  4K030JA06 ,  4K030KA15 ,  4K030KA30 ,  4K030KA47