特許
J-GLOBAL ID：201403048692188550
プラズマGMA溶接トーチ
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-265826
公開番号（公開出願番号）：特開2014-108458
出願日： 2012年12月04日
公開日（公表日）： 2014年06月12日
要約：
【課題】その先端の径を増大させて大型化させることなく、シールドガスのシールド性を向上させたプラズマGMA溶接トーチを提供する。【解決手段】プラズマGMA溶接トーチ1は、シールドノズル6の先端部とプラズマノズル5の先端部との間にガスレンズ7等の多孔質部材を取り付けると共に、この多孔質部材とシールドノズル6の先端部及びプラズマノズル5の先端部との間に形成されたガス貯留空間14により、シールドノズル6から吐出されるシールドガス13の勢いをしずめた後、前記多孔質部材により、シールドガス13を整流化するため、シールドガス13のシールド性が向上する。これにより、ブローホールの発生が防止される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
トーチ本体の先端に取り付けられ、溶接ワイヤを被溶接材に向けて送出すると共に、前記溶接ワイヤに溶接電流を供給するコンタクトチップと、
前記トーチ本体の先端に前記コンタクトチップを囲むように取り付けられ、前記コンタクトチップとの間に、センターガスが流れるセンターガス流路を形成し、前記溶接ワイヤとの間にプラズマ電圧を印加して前記センターガスをプラズマ化させると共に、このプラズマ化されたセンターガスを、その先端から前記溶接ワイヤの周辺部に向けて吐出するプラズマ電極と、
前記トーチ本体の先端に前記プラズマ電極を囲むように取り付けられ、前記プラズマ電極との間に、プラズマガスが流れるプラズマガス流路を形成し、前記プラズマ電極との間のプラズマ電圧により前記プラズマガスをプラズマ化させると共に、このプラズマ化されたプラズマガスを、その先端から前記溶接ワイヤの周辺部に向けて吐出するプラズマノズルと、
前記トーチ本体の先端に前記プラズマノズルを囲むように取り付けられ、前記プラズマノズルとの間にシールドガスが流れるシールドガス流路を形成し、その先端から前記シールドガスを前記被溶接材に向けて吐出するシールドノズルと、
前記シールドノズルの先端部と前記プラズマノズルの先端部との間に前記シールドガス流路に介在するように取り付けられ、前記シールドガスを整流化する多孔質部材と、
を有し、
前記シールドノズルの先端部と前記プラズマノズルの先端部との間に、これらの先端部と前記多孔質部材とにより囲まれた空間であって、前記シールドガス流路より大きな間隔のガス貯留空間が形成され、
前記多孔質部材の密度が0.3乃至2g/cm3であることを特徴とするプラズマGMA溶接トーチ。
IPC (4件)：
B23K 10/00
, B23K 10/02
, H05H 1/42
, H05H 1/34
B23K10/00 504
, B23K10/02 B
, H05H1/42
, H05H1/34
4E001BB11
, 4E001CA02
, 4E001DD02
, 4E001DD04
, 4E001DE01
, 4E001EA01
, 4E001EA03
, 4E001EA04
, 4E001EA08
, 4E001LB02
, 4E001LB05
, 4E001LB06
, 4E001LE06
, 4E001LE13
, 4E001LE15
, 4E001LH08
