特許
J-GLOBAL ID：201403050350059949

インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法

発明者：
木村 淳

木村 淳 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-159078
公開番号（公開出願番号）：特開2014-022527
出願日： 2012年07月17日
公開日（公表日）： 2014年02月03日
要約：
【課題】インプリント装置において、基板にモールドのパターンを転写する上で有利な技術を提供する。【解決手段】パターンが形成されたモールドと基板上の樹脂とを接触させた状態で前記樹脂を硬化させ、前記硬化した樹脂から前記モールドを剥離することで前記基板上にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置は、前記モールドを保持して移動可能なモールド保持部と、前記基板を保持して移動可能な基板保持部と、前記モールドと前記基板との距離に基づいて、前記モールドと前記基板との距離を変更することを妨げる抗力を決定する決定部と、前記モールドと前記基板との相対位置を制御するための情報を前記抗力に基づいて補正する補正部と、を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたモールドと基板上の樹脂とを接触させた状態で前記樹脂を硬化させ、前記硬化した樹脂から前記モールドを剥離することで前記基板上にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、 前記モールドを保持して移動可能なモールド保持部と、 前記基板を保持して移動可能な基板保持部と、 前記モールドと前記基板との距離に基づいて、前記モールドと前記基板との距離を変更することを妨げる抗力を決定する決定部と、 前記モールドと前記基板との相対位置を制御するための情報を前記抗力に基づいて補正する補正部と、 を含むことを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (18件)：
4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ06 ,  4F209AM32 ,  4F209AR02 ,  4F209AR07 ,  4F209AR12 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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