特許
J-GLOBAL ID：201403050692775140

ターゲット供給装置

発明者：
梅田 博

梅田 博 について

, 
若林 理

若林 理 について


出願人/特許権者：
ギガフォトン株式会社

ギガフォトン株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人樹之下知的財産事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-254187
公開番号（公開出願番号）：特開2014-102981
出願日： 2012年11月20日
公開日（公表日）： 2014年06月05日
要約：
【課題】絶縁破壊の発生を防止し得る、またはターゲット物質を適切に出力し得るターゲット供給装置を提供すること。【解決手段】ターゲット供給装置は、ノズルを備えたタンクと、第1貫通孔が設けられ、前記第1貫通孔内に前記ノズルの中心軸が位置するように設置された第1電極と、第2貫通孔が設けられた本体部、および、前記第2貫通孔の周縁から前記ノズルに近づく方向に延びる筒状に形成された捕集部を備え、前記第2貫通孔内に前記ノズルの中心軸が位置するように設置された第2電極と、前記タンク内部に設置された第3電極と、前記第2電極を加熱する加熱部と、を備えてもよい。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ノズルを備えたタンクと、 第1貫通孔が設けられ、前記第1貫通孔内に前記ノズルの中心軸が位置するように設置された第1電極と、 第2貫通孔が設けられた本体部、および、前記第2貫通孔の周縁から前記ノズルに近づく方向に延びる筒状に形成された捕集部を備え、前記第2貫通孔内に前記ノズルの中心軸が位置するように設置された第2電極と、 前記タンク内部に設置された第3電極と、 前記第2電極を加熱する加熱部と、を備えるターゲット供給装置。
IPC (2件)：
H05G 2/00 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
H05G1/00 K ,  H01L21/30 531S
Fターム (12件)：
4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB19 ,  4C092AB30 ,  4C092AC09 ,  4C092BD05 ,  4C092BD20 ,  4C092EE01 ,  5F146GA21 ,  5F146GC12 ,  5F146GC13 ,  5F146GC14
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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