EMM-22分子篩材料、その合成および使用

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：辻居幸一 , 熊倉禎男 , 箱田篤 , 浅井賢治 , 山崎一夫 , 市川さつき , 小林真知
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-526036
公開番号（公開出願番号）：特表2014-524406
出願日： 2012年07月24日
公開日（公表日）： 2014年09月22日
要約：

EMM-22と命名された分子篩材料は、その焼成された状態において、表2に与えられているピークを含むX-線回折パターンを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

焼成したままの状態において、以下の表1に記載のピークを含むX-線回折パターンを有する、分子篩材料:

IPC (3件)：

C01B 39/48 , B01J 29/70 , B01J 35/10

FI (3件)：

C01B39/48 , B01J29/70 Z , B01J35/10 301A

Fターム (49件)：

4G073BA02 , 4G073BA04 , 4G073BA57 , 4G073BA63 , 4G073BA69 , 4G073BA75 , 4G073BB06 , 4G073BB07 , 4G073BB12 , 4G073BB48 , 4G073BD07 , 4G073BD13 , 4G073CZ05 , 4G073CZ41 , 4G073FC04 , 4G073FC13 , 4G073FC19 , 4G073GA01 , 4G073GA03 , 4G073GA19 , 4G073UA03 , 4G073UA06 , 4G169AA02 , 4G169AA08 , 4G169AA12 , 4G169BA07A , 4G169BA07B , 4G169BA21C , 4G169BA38 , 4G169BE17C , 4G169BE36C , 4G169CC07 , 4G169EC07X , 4G169EC07Y , 4G169EC25 , 4G169EC27 , 4G169FB10 , 4G169FB30 , 4G169FB36 , 4G169FB57 , 4G169FC03 , 4G169FC08 , 4G169ZA32A , 4G169ZA32B , 4G169ZB08 , 4G169ZC02 , 4G169ZC04 , 4G169ZC07 , 4G169ZD03

引用特許：

審査官引用 (6件)

ゼオライトIM-5、その調製方法およびその触媒的適用
公報種別：公表公報出願番号：特願平10-519035 出願人：アンスティテュフランセデュペトロール
分子篩SSZ-75組成物及びその合成
公報種別：公表公報出願番号：特願2009-514480 出願人：シェブロンユー.エス.エー.インコーポレイテッド
特開昭59-190213

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