系の表面上のスケール堆積物を溶解および/または抑制する方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：アインゼル・フェリックス=ラインハルト , 久野琢也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-505333
公開番号（公開出願番号）：特表2014-518752
出願日： 2012年04月13日
公開日（公表日）： 2014年08月07日
要約：

系の表面上のスケールの堆積物を溶解および/または抑制する方法が、系の表面を組成物と接触させる段階を含む。該組成物は約3〜約15質量部のキレート成分を含むことができる。該キレート成分はMGDA、NTA、HEDTA、GLDA、EDTA、DTPAおよびそれらの混合物の群から選択される。該組成物は、さらに約3〜約15質量部の酸性成分を含むことができ、前記酸性成分はキレート成分とは異なる。該組成物はさらに、少なくとも約60質量部の水を含むことができる。上記の各質量部の範囲は、組成物の100質量部に基づいている。該組成物はさらに、界面活性剤成分および/または腐食防止剤を含むことがある。

請求項（抜粋）：

系の表面上でのスケールの堆積物を溶解および/または抑制する方法であって、系の表面を、下記: A) 以下の群から選択されるキレート成分約3〜約15質量部: a1) メチルグリシン-N-N-二酢酸(MGDA)および/またはそれらのアルカリ塩、 a2) ニトリロ三酢酸(NTA)および/またはそれらのアルカリ塩、 a3) ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸(HEDTA)および/またはそれらのアルカリ塩, a4) N,N-ビス(カルボキシメチル)-L-グルタメート(GLDA)および/またはそれらのアルカリ塩, a5) エチレンジアミン四酢酸(EDTA)および/またはそれらのアルカリ塩, a6) ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA)および/またはそれらのアルカリ塩、および a7) それらの混合物 B) キレート成分A)とは異なる酸性成分約3〜約15質量部、 C) 水少なくとも約60質量部、 D) 随意に、界面活性剤成分、および E) 随意に、腐食防止剤 (前記質量部は、組成物100質量部に基づく) を含む組成物と接触させる段階を含む前記方法。

IPC (17件)：

C02F 5/12 , C23G 1/06 , C11D 3/33 , C11D 7/08 , C11D 7/32 , C11D 3/06 , C11D 7/12 , C11D 7/26 , C11D 3/34 , C02F 5/08 , C02F 5/10 , C02F 5/00 , B08B 3/08 , C11D 3/20 , C11D 3/10 , C11D 7/34 , C11D 7/16

FI (24件)：

C02F5/12 , C23G1/06 , C11D3/33 , C11D7/08 , C11D7/32 , C11D3/06 , C11D7/12 , C11D7/26 , C11D3/34 , C02F5/08 C , C02F5/10 610A , C02F5/10 610Z , C02F5/00 620B , C02F5/10 620E , C02F5/10 620F , C02F5/10 620A , C02F5/10 620B , C02F5/00 620C , C02F5/00 620A , B08B3/08 Z , C11D3/20 , C11D3/10 , C11D7/34 , C11D7/16

Fターム (60件)：

3B201AA02 , 3B201AA12 , 3B201AA31 , 3B201AA33 , 3B201AA38 , 3B201AB51 , 3B201BB01 , 3B201BB09 , 3B201BB21 , 3B201BB82 , 3B201BB87 , 3B201BB92 , 3B201BB94 , 3B201BB96 , 3B201CA01 , 3B201CD01 , 4H003AB31 , 4H003AC05 , 4H003AC07 , 4H003BA12 , 4H003DA09 , 4H003DA12 , 4H003DA13 , 4H003DA14 , 4H003EA02 , 4H003EA03 , 4H003EB06 , 4H003EB07 , 4H003EB08 , 4H003EB13 , 4H003EB15 , 4H003EB16 , 4H003EB22 , 4H003ED02 , 4H003FA07 , 4H003FA21 , 4H003FA28 , 4K053PA02 , 4K053PA06 , 4K053PA08 , 4K053PA09 , 4K053PA10 , 4K053QA01 , 4K053RA15 , 4K053RA18 , 4K053RA40 , 4K053RA45 , 4K053RA46 , 4K053RA51 , 4K053RA52 , 4K053RA55 , 4K053RA62 , 4K053RA63 , 4K053RA64 , 4K053RA66 , 4K053SA03 , 4K053SA04 , 4K053SA06 , 4K053XA11 , 4K053XA24

引用特許：

審査官引用 (10件)

循環水系の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-068702 出願人：株式会社片山化学工業研究所
特許第6310024号
冷却水処理組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-297413 出願人：ディヴァージーコーポレーション

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