検出装置及びプログラム

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：河野登夫 , 河野英仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-110305
公開番号（公開出願番号）：特開2014-228801
出願日： 2013年05月24日
公開日（公表日）： 2014年12月08日
要約：

【課題】ライブラリのデータ量を抑えて、ライブラリに登録した参照パターンと同一又は類似の図形的特徴を有するマスクパターンを容易に検出することができる検出装置及びプログラムを提供する。【解決手段】半導体装置の製造に用いるフォトマスクを形成する複数のマスクパターンから、参照パターンと図形的特徴が一致又は類似するマスクパターンを検出する検出装置10において、前記マスクパターン及び参照パターンから複数の図形的な特徴点を夫々抽出する抽出部40と、抽出部40が夫々抽出した特徴点各々に、特徴点の識別情報及び該特徴点と隣り合う特徴点とを結ぶ線分の方向情報を前記マスクパターン及び参照パターン別に付与する付与部50と、付与部50が前記マスクパターン及び参照パターン別に付与した特徴点各々の識別情報及び方向情報に基づいて、図形的特徴が前記参照パターンに一致又は類似するマスクパターンを検出する検出部60とを備える。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

半導体装置の製造に用いるフォトマスクを形成する複数のマスクパターンから、予め用意した参照パターンと図形的特徴が一致又は類似するマスクパターンを検出する検出装置において、前記マスクパターン及び参照パターンから複数の図形的な特徴点を夫々抽出する抽出部と、該抽出部が夫々抽出した特徴点各々に、特徴点の識別情報及び該特徴点と隣り合う特徴点とを結ぶ線分の方向情報を前記マスクパターン及び参照パターン別に付与する付与部と、該付与部が前記マスクパターン及び参照パターン別に付与した特徴点各々の識別情報及び方向情報に基づいて、図形的特徴が前記参照パターンに一致又は類似するマスクパターンを検出する検出部とを備える検出装置。

IPC (1件)：

G03F 1/68

FI (1件)：

G03F1/68

Fターム (4件)：

2H095AD13 , 2H095BB36 , 2H095BD26 , 2H095BE04

引用特許：

審査官引用 (4件)

マスクデータ検証装置、設計レイアウト検証装置、それらの方法およびそれらのコンピュータ・プログラム
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-130517 出願人：ルネサスエレクトロニクス株式会社
特開平2-050284
特開平2-050284

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