スパッタリング装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：大塚康徳 , 高柳司郎 , 大塚康弘 , 木村秀二 , 下山治 , 永川行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-268066
公開番号（公開出願番号）：特開2014-111834
出願日： 2013年12月25日
公開日（公表日）： 2014年06月19日
要約：

【課題】チャンバー内のパーティクル発生を抑制する方法の提供。【解決手段】スパッタリング装置1は、成膜処理を行うための処理チャンバー2内に設置され基板10を載置するための基板ホルダー7と、処理チャンバー内に設置されたターゲットホルダー6と、基板ホルダー7とターゲットホルダー6との間を遮蔽する遮蔽状態、または基板ホルダー7とターゲットホルダー6との間から退避した退避状態に移動することが可能なシャッター19と、シャッターを駆動する駆動手段32と、シャッター19を処理チャンバー2内に出し入れするための開口部を有し、退避状態のシャッター19を収納するシャッター収納部23と、処理チャンバー2内にガスを導入するためのガス導入管とを備え、ガス導入管はシャッター収納部23に設けられ、開口部を介して処理チャンバー2に導入される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

成膜処理を行うための処理チャンバーと、前記処理チャンバー内に設置され、基板を載置するための基板ホルダーと、前記処理チャンバー内に設置されたターゲットホルダーと、前記基板ホルダーと前記ターゲットホルダーとの間を遮蔽する遮蔽状態、または前記基板ホルダーと前記ターゲットホルダーとの間から退避した退避状態に移動することが可能なシャッターと、前記シャッターを駆動する駆動手段と、前記シャッターを前記処理チャンバー内に出し入れするための開口部を有し、前記退避状態の前記シャッターを収納するシャッター収納部と、前記処理チャンバー内にガスを導入するためのガス導入管と、を備え、前記ガス導入管は、前記シャッター収納部に設けられ、前記シャッター収納部に導入されるガスは、前記シャッター収納部の開口部を介して前記処理チャンバーに導入されることを特徴とするスパッタリング装置。

IPC (1件)：

C23C 14/34

FI (1件)：

C23C14/34 M

Fターム (17件)：

4K029AA06 , 4K029AA24 , 4K029BA44 , 4K029BA60 , 4K029BB02 , 4K029CA05 , 4K029CA06 , 4K029DA03 , 4K029DA04 , 4K029DA10 , 4K029DA12 , 4K029DC20 , 4K029DC45 , 4K029FA09 , 4K029JA08 , 4K029KA05 , 4K029KA09

引用特許：

出願人引用 (2件)

スパッタリング装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2009-502005 出願人：ナムローゼ・フェンノートシャップ・ベーカート・ソシエテ・アノニム
スパッタリング工程の管理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-180913 出願人：松下電工株式会社

審査官引用 (2件)

スパッタリング装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2009-502005 出願人：ナムローゼ・フェンノートシャップ・ベーカート・ソシエテ・アノニム
スパッタリング工程の管理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-180913 出願人：松下電工株式会社

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