特許
J-GLOBAL ID：201403072562954992

光電場増強デバイスとその製造方法、及びそれを用いた測定装置

発明者：
納谷 昌之

納谷 昌之 について

, 
山添 昇吾

山添 昇吾 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-217669
公開番号（公開出願番号）：特開2014-071014
出願日： 2012年09月28日
公開日（公表日）： 2014年04月21日
要約：
【課題】精密な機械制御を要することなく精度の高い信号画像を取得可能であり、細胞などのμmオーダー以上の試料にも適用可能なケミカルイメージングを実現する。【解決手段】光電場増強デバイス1は、表面内方向に2次元走査して、励起光L1照射した各走査点からの各信号光を裏面10s側から検出し、検出された信号光に基づいて表面における2次元信号画像を取得する測定方法に用いられるものであり、透明基板10と、透明基板10上に直接形成され、2次元走査における主走査方向と非平行方向に延びるマーカーパターン20と、マーカーパターン20及び透明基板10上に形成された少なくとも表面40sが金属膜40からなる微細凹凸構造(30,40)を備えた構成としている。【選択図】図1B
請求項（抜粋）：
励起光の照射により表面に局在プラズモンが誘起され、前記照射により前記表面に載置された試料から発せられる信号光の強度を増強する光電場増強デバイスであって、 前記表面に対して、前記励起光を前記表面内方向に2次元走査して、各走査点からの各前記信号光を裏面側から検出し、該検出により得られた各信号光に基づいて前記表面における2次元信号画像を取得する測定方法に用いられるものであり、 透明基板と、 該透明基板上に直接形成され、前記2次元走査における主走査方向と非平行方向に延びるマーカーパターンと、 該マーカーパターン及び前記透明基板上に形成された少なくとも表面が金属膜からなる微細凹凸構造を備えたことを特徴とする光電場増強デバイス。
IPC (1件)：
G01N 21/65
FI (1件)：
G01N21/65
Fターム (16件)：
2G043EA01 ,  2G043EA03 ,  2G043EA14 ,  2G043FA01 ,  2G043FA02 ,  2G043GA07 ,  2G043GB02 ,  2G043GB03 ,  2G043GB05 ,  2G043GB16 ,  2G043HA01 ,  2G043HA02 ,  2G043JA02 ,  2G043KA02 ,  2G043KA05 ,  2G043KA09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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