α線量が少ない錫又は錫合金及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小越勇 , 小越一輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-238445
公開番号（公開出願番号）：特開2014-088621
出願日： 2013年11月19日
公開日（公表日）： 2014年05月15日
要約：

【課題】高密度化及び高容量化された半導体装置において、半導体チップ近傍の材料、特にはんだ材料からのα線の影響によるソフトエラーが発生を防止できる、錫又は錫合金及びその製造方法を提供する。【解決手段】溶解・鋳造した後の試料のα線量が0.0005cph/cm2未満である錫。溶解・鋳造から1週間後、3週間後、1ヵ月後、2ヵ月後、6ヵ月後及び30ヵ月後の、それぞれのα線量が0.0005cph/cm2未満であり、試料の第1回目に測定したα線量が0.0002cph/cm2未満であって、そのα線量と、それから5ヶ月経過した後に測定したα線量との差が0.0003cph/cm2未満であることが好ましい。Pb含有量が0.1ppm以下であり、U,Thのそれぞれの含有量が5ppb以下であり、錫を40%以上含有する錫合金である。純度3Nレベルの原料錫を塩酸又は硫酸で浸出した後、特定した電解液を用いて電解精製する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

溶解・鋳造した後の試料のα線量が0.0005cph/cm2未満であることを特徴とする錫。

IPC (2件)：

C22C 13/00 , C22B 3/04

FI (2件)：

C22C13/00 , C22B3/00 A

Fターム (21件)：

4K001AA24 , 4K001BA23 , 4K001CA05 , 4K001CA09 , 4K001DB03 , 4K001DB04 , 4K001DB21 , 4K058AA01 , 4K058BA28 , 4K058BB01 , 4K058BB02 , 4K058BB03 , 4K058CA03 , 4K058CA04 , 4K058CA05 , 4K058CA11 , 4K058CA13 , 4K058CA17 , 4K058CA22 , 4K058EB16 , 4K058EC03

引用特許：

審査官引用 (5件)

低α線錫合金の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-038661 出願人：ハリマ化成株式会社, 株式会社大和化成研究所
低α線量錫の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-236883 出願人：三菱マテリアル株式会社
特開平2-228487

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