特許
J-GLOBAL ID:201403075874857748
層状配列、高温ガス経路構成部品、および層状配列を形成するプロセス
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
荒川 聡志
, 小倉 博
, 黒川 俊久
, 田中 拓人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-199097
公開番号(公開出願番号):特開2014-069574
出願日: 2013年09月26日
公開日(公表日): 2014年04月21日
要約:
【課題】層状配列、高温ガス経路構成部品、および層状配列を形成するプロセスお提供する。【解決手段】層状配列は、基板層と、セラミック・マトリックス複合材料層と、基板層とセラミック・マトリックス複合材料層との間の非金属スペーサであって、1または複数のポケットを画定するように構成された非金属スペーサとを備える。高温ガス経路構成部品は、ニッケル系超合金層と、セラミック・マトリックス複合材料層と、ニッケル系超合金層とセラミック・マトリックス複合材料層との間のセラミック・スペーサとを備えている。セラミック・スペーサは、基板層およびセラミック・マトリックス複合材料層の一方または両方に機械的に固定され、またセラミック・スペーサは、基板層またはセラミック・マトリックス複合材料層に接合されている。プロセスには、層状配列の基板層とセラミック・マトリックス複合材料層との間に非金属スペーサを固定することが含まれている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板層と、
セラミック・マトリックス複合材料層と、
前記基板層と前記セラミック・マトリックス複合材料層との間の非金属スペーサであって、1または複数のポケットを画定するように構成された非金属スペーサと、を備える層状配列。
IPC (9件):
B32B 18/00
, F02C 7/00
, F01D 5/28
, F01D 9/02
, F01D 9/04
, F01D 25/00
, C04B 37/02
, B32B 3/10
, B32B 15/04
FI (9件):
B32B18/00 Z
, F02C7/00 C
, F01D5/28
, F01D9/02 102
, F01D9/04
, F01D25/00 L
, C04B37/02 A
, B32B3/10
, B32B15/04 B
Fターム (28件):
3G202BA08
, 3G202BA09
, 3G202BB00
, 3G202EA08
, 3G202EA09
, 3G202GA10
, 3G202GA13
, 4F100AA27C
, 4F100AB16A
, 4F100AB31B
, 4F100AD00B
, 4F100AD00C
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100DC11B
, 4F100DD01B
, 4F100EH46D
, 4F100GB51
, 4F100JJ02D
, 4G026BA01
, 4G026BB28
, 4G026BF04
, 4G026BF45
, 4G026BH02
引用特許:
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